Diseño y caracterización de un sistema de pulverización catódica DC para la deposición de películas delgadas de tierras raras y metales de transición

Pág. 13-18

Autores:
Rojas Martínez, Y.
Oyola Lozano, D.
Bustos Rodríguez, H.
Cardona Bedoya, J. A.
Pérez Alcázar,G.
Tipo de recurso:
Fecha de publicación:
2009
Institución:
Universidad del Tolima
Repositorio:
RIUT: Repositorio U. Tolima
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repository.ut.edu.co:001/1359
Acceso en línea:
https://repository.ut.edu.co/handle/001/1359
Palabra clave:
Pulverización catódica DC
Plasma
Sonda de Langmuir
Parámetros macroscópicos
Sputtering DC
Plasma
Langmuir sonde
Electric discharges
Macroscopic parameter
Rights
License
Atribución-NoComercial-CompartirIgual 2.5 Colombia (CC BY-NC-SA 2.5 CO)
Description
Summary:Pág. 13-18