Influencia de la temperatura y la concentración de oxígeno en la deposición de óxido de tungesteno (WOx) por medio de un proceso de deposición química en fase de vapor con filamento caliente (HFCVD)

Ingeniero Químico

Autores:: Parra Ruiz, David Camilo

Tipo de recurso:: Trabajo de grado de pregrado

Fecha de publicación:: 2011

Institución:: Universidad de los Andes

Repositorio:: Séneca: repositorio Uniandes

Idioma:: spa

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