Influencia de la temperatura y la concentración de oxígeno en la deposición de óxido de tungesteno (WOx) por medio de un proceso de deposición química en fase de vapor con filamento caliente (HFCVD)

Ingeniero Químico

Autores:

Parra Ruiz, David Camilo

Tipo de recurso:

Trabajo de grado de pregrado

Fecha de publicación:

2011

Institución:

Universidad de los Andes

Repositorio:

Séneca: repositorio Uniandes

Idioma:

spa

OAI Identifier:

oai:repositorio.uniandes.edu.co:1992/14685

Acceso en línea:

http://hdl.handle.net/1992/14685

Palabra clave:

Oxidos de tungsteno - Investigaciones
Deposición química de vapores - Investigaciones
Nucleación - Investigaciones
Ingeniería

Rights

openAccess

License

http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/