(2011). Influencia de la temperatura y la concentración de oxígeno en la deposición de óxido de tungesteno (WOx) por medio de un proceso de deposición química en fase de vapor con filamento caliente (HFCVD).
Chicago Style (17th ed.) CitationInfluencia De La Temperatura Y La Concentración De Oxígeno En La Deposición De óxido De Tungesteno (WOx) Por Medio De Un Proceso De Deposición Química En Fase De Vapor Con Filamento Caliente (HFCVD). 2011.
MLA (8th ed.) CitationInfluencia De La Temperatura Y La Concentración De Oxígeno En La Deposición De óxido De Tungesteno (WOx) Por Medio De Un Proceso De Deposición Química En Fase De Vapor Con Filamento Caliente (HFCVD). 2011.
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