Caracterización de películas delgadas de dióxido de silicio (SIO2) obtenidas mediante la técnica combustion chemical vapor deposition (CCVD)

"La técnica Combustion Chemical Vapor Deposition (CCVD) permite obtener recubrimientos sobre sustratos en condiciones ambientales, esto resulta conveniente industrialmente dado la simplicidad del proceso. En este trabajo se implementó un montaje de deposición CCVD para estudiar las variables involucradas en el proceso de deposición, así como las características de los recubrimientos obtenidos. Los resultados indican que el proceso permite la modificación de la energía superficial de sustratos de vidrio. Se obtuvo evidencia suficiente que respalda la presencia de SiO2 en los sustratos tratados. Las superficies tratadas poseen carácter altamente hidrofílico. Los recubrimientos obtenidos poseen adherencia suficiente para resistir a algunas acciones mecánicas y ambientales, lo cual indica que la técnica estudiada se plantea como una opción viable para el diseño de recubrimientos funcionales." -- Tomado del Formato de Documento de Grado.

• Autores: Capote Sánchez, Ariel
• Tipo de recurso: Trabajo de grado de pregrado
• Fecha de publicación: 2020
• Institución: Universidad de los Andes
• Repositorio: Séneca: repositorio Uniandes
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.uniandes.edu.co:1992/44837
• Acceso en línea: http://hdl.handle.net/1992/44837
• Palabra clave: Películas delgadas; Películas delgadas de silicio; Silicio; Galvanoplastia al vapor; Deposición química de vapores; Ingeniería
• Rights: openAccess
• License: http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/