Caracterización de películas delgadas de dióxido de silicio (SIO2) obtenidas mediante la técnica combustion chemical vapor deposition (CCVD)

"La técnica Combustion Chemical Vapor Deposition (CCVD) permite obtener recubrimientos sobre sustratos en condiciones ambientales, esto resulta conveniente industrialmente dado la simplicidad del proceso. En este trabajo se implementó un montaje de deposición CCVD para estudiar las variables in...

Full description

Autores:

Capote Sánchez, Ariel

Tipo de recurso:

Trabajo de grado de pregrado

Fecha de publicación:

2020

Institución:

Universidad de los Andes

Repositorio:

Séneca: repositorio Uniandes

Idioma:

spa

OAI Identifier:

oai:repositorio.uniandes.edu.co:1992/44837

Acceso en línea:

http://hdl.handle.net/1992/44837

Palabra clave:

Películas delgadas
Películas delgadas de silicio
Silicio
Galvanoplastia al vapor
Deposición química de vapores
Ingeniería

Rights

openAccess

License

http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/