APA (7th ed.) Citation

(2020). Caracterización de películas delgadas de dióxido de silicio (SIO2) obtenidas mediante la técnica combustion chemical vapor deposition (CCVD).

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Caracterización De Películas Delgadas De Dióxido De Silicio (SIO2) Obtenidas Mediante La Técnica Combustion Chemical Vapor Deposition (CCVD). 2020.

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Caracterización De Películas Delgadas De Dióxido De Silicio (SIO2) Obtenidas Mediante La Técnica Combustion Chemical Vapor Deposition (CCVD). 2020.

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