Influencia de pretratamientos superficiales sobre vidrio y silicio en la deposición de WOx mediante HFCVD (Hot Filament Chemical Vapor Deposition)

Ingeniero Químico

Autores:
Soto Beltrán, Laura Lorena
Tipo de recurso:
Trabajo de grado de pregrado
Fecha de publicación:
2010
Institución:
Universidad de los Andes
Repositorio:
Séneca: repositorio Uniandes
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repositorio.uniandes.edu.co:1992/14628
Acceso en línea:
http://hdl.handle.net/1992/14628
Palabra clave:
Deposición química de vapores - Investigaciones
Oxidos de tungsteno
Nucleación - Investigaciones
Silicio - Investigaciones
Vidrio - Investigaciones
Ingeniería
Rights
openAccess
License
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