Influencia de pretratamientos superficiales sobre vidrio y silicio en la deposición de WOx mediante HFCVD (Hot Filament Chemical Vapor Deposition)

Ingeniero Químico

Autores:

Soto Beltrán, Laura Lorena

Tipo de recurso:

Trabajo de grado de pregrado

Fecha de publicación:

2010

Institución:

Universidad de los Andes

Repositorio:

Séneca: repositorio Uniandes

Idioma:

spa

OAI Identifier:

oai:repositorio.uniandes.edu.co:1992/14628

Acceso en línea:

http://hdl.handle.net/1992/14628

Palabra clave:

Deposición química de vapores - Investigaciones
Oxidos de tungsteno
Nucleación - Investigaciones
Silicio - Investigaciones
Vidrio - Investigaciones
Ingeniería

Rights

openAccess

License

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