Influencia de pretratamientos superficiales sobre vidrio y silicio en la deposición de WOx mediante HFCVD (Hot Filament Chemical Vapor Deposition)

Ingeniero Químico

• Autores: Soto Beltrán, Laura Lorena
• Tipo de recurso: Trabajo de grado de pregrado
• Fecha de publicación: 2010
• Institución: Universidad de los Andes
• Repositorio: Séneca: repositorio Uniandes
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.uniandes.edu.co:1992/14628
• Acceso en línea: http://hdl.handle.net/1992/14628
• Palabra clave: Deposición química de vapores - Investigaciones; Oxidos de tungsteno; Nucleación - Investigaciones; Silicio - Investigaciones; Vidrio - Investigaciones; Ingeniería
• Rights: openAccess
• License: http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/