Modelamiento de los esfuerzos residuales en películas delgadas de multicapas

Películas delgadas de cromo (Cr), nitruro de cromo (CrN) y multicapas de Cr/CrN se crecieron, utilizando la técnica de magnetrón sputtering, sobre sustrato de silicio. Las condiciones de crecimiento se mantuvieron constantes, no se aplico calentamiento ni voltaje bias al sustrato. Las películas delg...