Implementación de una fuente de arcos pulsados para la producción de recubrimientos duros de TiN

En este trabajo se hace referencia a la implementación de una fuente de arcos pulsados, que ha sido acoplada a un sistema de deposición de recubrimientos duros, utilizando la técnica de deposición física en fase vapor asistida por plasma (Plasma Assisted Physical Vapor Deposition – PAPVD), en funcio...

Full description

Autores:: Arango, Yulieth Cristina

Tipo de recurso:

Fecha de publicación:: 2004

Institución:: Universidad Nacional de Colombia

Repositorio:: Universidad Nacional de Colombia

Idioma:: spa

Description
Summary:	En este trabajo se hace referencia a la implementación de una fuente de arcos pulsados, que ha sido acoplada a un sistema de deposición de recubrimientos duros, utilizando la técnica de deposición física en fase vapor asistida por plasma (Plasma Assisted Physical Vapor Deposition – PAPVD), en funcionamiento de este nuevo sistema y algunas de sus ventajas han sido corroborados mediante la producción de recubrimientos de nitruro de titanio (TiN) sobre sustrato de acero inoxidable 304, variando algunos de los parámetros de proceso. El primer capitulo contiene algunas bases teóricas acerca de los procesos de deposición asistidos por plasma, especialmente se da importancia a los procesos PAPVD en los que se utiliza la formación de un arco eléctrico para la evaporación del material de aporte. Se hacen algunas consideraciones importantes en el diseño de fuentes de arco continuo y arco pulsado, ventajas y desventajas. El segundo capitulo trata, de manera general, aspectos importantes sobre la fenomenológica que acompaña el proceso de iniciación y formación del arco eléctrico dentro del reactor y la relación que este tiene con el circuito eléctrico que lo produce. Se consideran también las herramientas de diseño utilizadas en los circuitos de potencia y de control. Finalmente se reporta la configuración eléctrica y electrónica implementada, así como el software de control. En el tercer capitulo se describen los parámetros que pueden ser modificados en la nueva fuente de arcos pulsados, voltaje entre electrodos, numero de arcos pulsados requeridos, tiempo de arco activo y tiempo de arco inactivo. Han sido obtenidos recubrimientos de TiN variando el número de arcos aplicados (4 muestras) y el tiempo de arco activo (4 muestras). En la etapa de caracterización, se reportan algunas medidas de espesor, difracción de rayos X, realizados sobre la muestra, los resultados obtenidos son comparados con aquellos tomados para muestras crecidas previamente en el laboratorio (utilizando la descarga de un banco de capacitares). (Texto tomado de la fuente)

Implementación de una fuente de arcos pulsados para la producción de recubrimientos duros de TiN

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