Microestructura, esfuerzos residuales y dureza en películas delgadas de nitruro de titanio-circonio

Películas delgadas de nitruro de titanio-circonio (TiZrN) fueron sintetizadas a diferentes valores de temperaturas del sustrato por medio de la técnica de deposición de arco catódico pulsado. Inicialmente, se realizó un análisis de espectroscopía de energía dispersiva de rayos (EDS) con el fin de comprobar la presencia de los elementos químicos de Ti, Zr y N posterior a la deposición. Un análisis microestructural fue llevado a cabo por medio de varios métodos debido a la presencia de anisotropías en la microdeformación y finalmente se realizó un modelamiento del patrón de difracción para determinar valores físicos reales de la microestructura de las películas; basándose en la extracción de información del patrón de difracción de rayos X de polvo (XRPD). El estado de esfuerzo residual fue también determinado por medio de la técnica de difracción de rayos X asumiendo un comportamiento isotrópico del material en función del módulo de Young y el coeficiente de Poisson. La morfología superficial de la muestra fue determinada por medio de microscopía de fuerza atómica en función de la evolución del tamaño de grano en términos de la temperatura del sustrato durante la deposición. Por medio de nanoindentaciones, la dureza de las películas fue determinada, finalmente relacionando esta propiedad con los parámetros de síntesis a través de la información microestructural extraída a través de los modelos utilizados (Texto tomado de la fuente)

• Autores: Escobar Rincón , Daniel
• Fecha de publicación: 2012
• Institución: Universidad Nacional de Colombia
• Repositorio: Universidad Nacional de Colombia
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.unal.edu.co:unal/11639
• Acceso en línea: https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/11639; http://bdigital.unal.edu.co/9108/
• Palabra clave: 53 Física / Physics; 62 Ingeniería y operaciones afines / Engineering; Caracterización de materiales; Películas delgadas; Nitruro de Titanio-Circonio; Microestructura; Esfuerzo residual // Materials characterization; Thin films; Titanium-Zirconium Nitride; Microstructure; Residual stress
• Rights: openAccess
• License: Atribución-NoComercial 4.0 Internacional