Recubrimientos de bismuto depositados por la técnica sputtering D.C pulsado
En el trabajo de tesis de maestría se depositaron y caracterizaron películas de bismuto sobre sustratos 316L, Ti6Al4V, vidrio y silicio mediante la tecnica sputtering con magnetron desbalanceado UBM (unbalanced magnetron por sus siglas en ingles ) D.C pulsado. Posteriormente los recubrimientos depos...
- Autores:
-
Ortiz Bastos, María Fernanda
- Tipo de recurso:
- Fecha de publicación:
- 2012
- Institución:
- Universidad Nacional de Colombia
- Repositorio:
- Universidad Nacional de Colombia
- Idioma:
- spa
- OAI Identifier:
- oai:repositorio.unal.edu.co:unal/11553
- Acceso en línea:
- https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/11553
http://bdigital.unal.edu.co/8988/
- Palabra clave:
- 62 Ingeniería y operaciones afines / Engineering
Bismuto
Sputtering D.C pulsado
pruebas electroquímicas
Resistencia a la corrosión
Coeficiente de absorción / Bismuth
Pulsed D.C sputtering
Electrochemical tests
Corrosion resistance
Absorption coefficient
- Rights
- openAccess
- License
- Atribución-NoComercial 4.0 Internacional