Deposición de películas delgadas de Diamond-like Carbon (DLC) utilizando la técnica DC-pulsada PECVD

Resumen. En este trabajo se realizó la deposición de películas delgadas de carbono amorfo hidrogenado usando la técnica DC-pulsada PECVD. Las películas fueron depositadas utilizando plasma de metano y variando la tensión de autopolarización aplicada al cátodo durante el crecimiento de las películas....

Full description

Autores:
Vargas Barrera, César Orlando
Tipo de recurso:
Fecha de publicación:
2017
Institución:
Universidad Nacional de Colombia
Repositorio:
Universidad Nacional de Colombia
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repositorio.unal.edu.co:unal/62114
Acceso en línea:
https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/62114
http://bdigital.unal.edu.co/61022/
Palabra clave:
53 Física / Physics
54 Química y ciencias afines / Chemistry
6 Tecnología (ciencias aplicadas) / Technology
66 Ingeniería química y Tecnologías relacionadas/ Chemical engineering
DLC
Recubrimientos
Sustrato de silicio
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Películas de carbono amorfo hidrogenado
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description Resumen. En este trabajo se realizó la deposición de películas delgadas de carbono amorfo hidrogenado usando la técnica DC-pulsada PECVD. Las películas fueron depositadas utilizando plasma de metano y variando la tensión de autopolarización aplicada al cátodo durante el crecimiento de las películas. El sustrato que se utilizó para depositar las películas fue silicio. Las películas fueron caracterizadas teniendo en cuenta las principales propiedades microestructurales y mecánicas. Los estudios llevados a cabo permitieron obtener los parámetros óptimos para la deposición de las películas de carbono amorfo hidrogenado empleando este sistema de deposición.
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