Deposición de películas delgadas de Diamond-like Carbon (DLC) utilizando la técnica DC-pulsada PECVD

Resumen. En este trabajo se realizó la deposición de películas delgadas de carbono amorfo hidrogenado usando la técnica DC-pulsada PECVD. Las películas fueron depositadas utilizando plasma de metano y variando la tensión de autopolarización aplicada al cátodo durante el crecimiento de las películas. El sustrato que se utilizó para depositar las películas fue silicio. Las películas fueron caracterizadas teniendo en cuenta las principales propiedades microestructurales y mecánicas. Los estudios llevados a cabo permitieron obtener los parámetros óptimos para la deposición de las películas de carbono amorfo hidrogenado empleando este sistema de deposición.

• Autores: Vargas Barrera, César Orlando
• Fecha de publicación: 2017
• Institución: Universidad Nacional de Colombia
• Repositorio: Universidad Nacional de Colombia
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.unal.edu.co:unal/62114
• Acceso en línea: https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/62114; http://bdigital.unal.edu.co/61022/
• Palabra clave: 53 Física / Physics; 54 Química y ciencias afines / Chemistry; 6 Tecnología (ciencias aplicadas) / Technology; 66 Ingeniería química y Tecnologías relacionadas/ Chemical engineering; DLC; Recubrimientos; Sustrato de silicio; Metano; Películas de carbono amorfo hidrogenado; PECVD; Microestructura; Propiedades mecánicas; Coatings; Silicon substrate; Methane; Amorphous hydrogenated carbon films; Microstructure; Mechanical properties
• Rights: openAccess
• License: Atribución-NoComercial 4.0 Internacional