Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía

Se diseñó e implementó un sistema óptico para la producción de patrones de intensidad de alta resolución (450 nm), el cual puede ser utilizado para el posterior desarrollo de un equipo de litografía óptica sin máscara (LOSM), adecuado para la generación de elementos ópticos difractivos1. En el equip...

Full description

Autores:
Amézquita Orozco, Ricardo
Tipo de recurso:
Doctoral thesis
Fecha de publicación:
2013
Institución:
Universidad Nacional de Colombia
Repositorio:
Universidad Nacional de Colombia
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repositorio.unal.edu.co:unal/60098
Acceso en línea:
https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/60098
http://bdigital.unal.edu.co/58060/
Palabra clave:
5 Ciencias naturales y matemáticas / Science
53 Física / Physics
óptica
litografía
difracción
optics
litography
diffraction
Rights
openAccess
License
Atribución-NoComercial 4.0 Internacional
id UNACIONAL2_a6a418474fad98ed5d62b92bb80b3a0f
oai_identifier_str oai:repositorio.unal.edu.co:unal/60098
network_acronym_str UNACIONAL2
network_name_str Universidad Nacional de Colombia
repository_id_str
spelling Atribución-NoComercial 4.0 InternacionalDerechos reservados - Universidad Nacional de Colombiahttp://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/info:eu-repo/semantics/openAccesshttp://purl.org/coar/access_right/c_abf2Amézquita Orozco, Ricardoc679c620-0291-4475-95d3-5fcac2db388e3002019-07-02T17:31:45Z2019-07-02T17:31:45Z2013https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/60098http://bdigital.unal.edu.co/58060/Se diseñó e implementó un sistema óptico para la producción de patrones de intensidad de alta resolución (450 nm), el cual puede ser utilizado para el posterior desarrollo de un equipo de litografía óptica sin máscara (LOSM), adecuado para la generación de elementos ópticos difractivos1. En el equipo desarrollado, la generación de la imagen a registrar no se hizo reemplazando la fotomáscara normalmente utilizada en los equipos de microlitografía con un modulador espacial de amplitud, sino que se realizó empleando técnicas difractivas. Esto permitió que el modulador espacial de luz utilizado en esta tarea, fuera además empleado para compensar las aberraciones del sistema óptico, simplificando las tareas de diseño, permitiendo el uso de óptica de catálogo, y facilitando la fabricación. A parte del diseño óptico del sistema, se propusieron una serie de modificaciones al algoritmo de Gerchberg-Saxton, que permiten encontrar la función de fase que se debe colocar en el modulador para el diseño propuesto. Estos algoritmos resuelven de manera novedosa las dificultades experimentales que se presentan al fabricar el equipoThe design and implementation of an optical system for producing high resolution intensity patterns, which can be used for the development of an optical maskless lithography (OML) system suitable for the production of optical difractive elements was performed2. In the developed system, the image was not produced by replacing the photomask normally used in the microlithography systems, by an amplitude spatial light modulator, but it was created using difractive techniques. This allowed the modulator used to produce the image to be used also in the compensation of the aberrations present in the optical system, simplifying the design tasks, and allowing the use of o -the-shelf optics and simplifying the construction of the system. Besides the optical design of the system, a set of modifications to the Gerchberg-Saxton algorithm were proposed, to find the phase function that must be used in the modulator for the proposed design. This algorithms solve in a novel way, the experimental dificulties present in the fabrication of the system.Doctoradoapplication/pdfspaUniversidad Nacional de Colombia Sede Bogotá Facultad de Ciencias Departamento de FísicaDepartamento de FísicaAmézquita Orozco, Ricardo (2013) Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía. Doctorado thesis, Universidad Nacional de Colombia - Sede Bogotá.5 Ciencias naturales y matemáticas / Science53 Física / PhysicsópticalitografíadifracciónopticslitographydiffractionDiseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografíaTrabajo de grado - Doctoradoinfo:eu-repo/semantics/doctoralThesisinfo:eu-repo/semantics/acceptedVersionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_db06Texthttp://purl.org/redcol/resource_type/TDORIGINAL183163.2013.pdfapplication/pdf1968001https://repositorio.unal.edu.co/bitstream/unal/60098/1/183163.2013.pdf228551866b24b91eeff418b1fe46e664MD51THUMBNAIL183163.2013.pdf.jpg183163.2013.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg4146https://repositorio.unal.edu.co/bitstream/unal/60098/2/183163.2013.pdf.jpg67200f90c89cc18718c8025128439e00MD52unal/60098oai:repositorio.unal.edu.co:unal/600982024-04-11 23:09:30.266Repositorio Institucional Universidad Nacional de Colombiarepositorio_nal@unal.edu.co
dc.title.spa.fl_str_mv Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía
title Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía
spellingShingle Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía
5 Ciencias naturales y matemáticas / Science
53 Física / Physics
óptica
litografía
difracción
optics
litography
diffraction
title_short Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía
title_full Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía
title_fullStr Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía
title_full_unstemmed Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía
title_sort Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía
dc.creator.fl_str_mv Amézquita Orozco, Ricardo
dc.contributor.author.spa.fl_str_mv Amézquita Orozco, Ricardo
dc.subject.ddc.spa.fl_str_mv 5 Ciencias naturales y matemáticas / Science
53 Física / Physics
topic 5 Ciencias naturales y matemáticas / Science
53 Física / Physics
óptica
litografía
difracción
optics
litography
diffraction
dc.subject.proposal.spa.fl_str_mv óptica
litografía
difracción
optics
litography
diffraction
description Se diseñó e implementó un sistema óptico para la producción de patrones de intensidad de alta resolución (450 nm), el cual puede ser utilizado para el posterior desarrollo de un equipo de litografía óptica sin máscara (LOSM), adecuado para la generación de elementos ópticos difractivos1. En el equipo desarrollado, la generación de la imagen a registrar no se hizo reemplazando la fotomáscara normalmente utilizada en los equipos de microlitografía con un modulador espacial de amplitud, sino que se realizó empleando técnicas difractivas. Esto permitió que el modulador espacial de luz utilizado en esta tarea, fuera además empleado para compensar las aberraciones del sistema óptico, simplificando las tareas de diseño, permitiendo el uso de óptica de catálogo, y facilitando la fabricación. A parte del diseño óptico del sistema, se propusieron una serie de modificaciones al algoritmo de Gerchberg-Saxton, que permiten encontrar la función de fase que se debe colocar en el modulador para el diseño propuesto. Estos algoritmos resuelven de manera novedosa las dificultades experimentales que se presentan al fabricar el equipo
publishDate 2013
dc.date.issued.spa.fl_str_mv 2013
dc.date.accessioned.spa.fl_str_mv 2019-07-02T17:31:45Z
dc.date.available.spa.fl_str_mv 2019-07-02T17:31:45Z
dc.type.spa.fl_str_mv Trabajo de grado - Doctorado
dc.type.driver.spa.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/doctoralThesis
dc.type.version.spa.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
dc.type.coar.spa.fl_str_mv http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
dc.type.content.spa.fl_str_mv Text
dc.type.redcol.spa.fl_str_mv http://purl.org/redcol/resource_type/TD
format http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
status_str acceptedVersion
dc.identifier.uri.none.fl_str_mv https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/60098
dc.identifier.eprints.spa.fl_str_mv http://bdigital.unal.edu.co/58060/
url https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/60098
http://bdigital.unal.edu.co/58060/
dc.language.iso.spa.fl_str_mv spa
language spa
dc.relation.ispartof.spa.fl_str_mv Universidad Nacional de Colombia Sede Bogotá Facultad de Ciencias Departamento de Física
Departamento de Física
dc.relation.references.spa.fl_str_mv Amézquita Orozco, Ricardo (2013) Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía. Doctorado thesis, Universidad Nacional de Colombia - Sede Bogotá.
dc.rights.spa.fl_str_mv Derechos reservados - Universidad Nacional de Colombia
dc.rights.coar.fl_str_mv http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
dc.rights.license.spa.fl_str_mv Atribución-NoComercial 4.0 Internacional
dc.rights.uri.spa.fl_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/
dc.rights.accessrights.spa.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
rights_invalid_str_mv Atribución-NoComercial 4.0 Internacional
Derechos reservados - Universidad Nacional de Colombia
http://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/
http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.mimetype.spa.fl_str_mv application/pdf
institution Universidad Nacional de Colombia
bitstream.url.fl_str_mv https://repositorio.unal.edu.co/bitstream/unal/60098/1/183163.2013.pdf
https://repositorio.unal.edu.co/bitstream/unal/60098/2/183163.2013.pdf.jpg
bitstream.checksum.fl_str_mv 228551866b24b91eeff418b1fe46e664
67200f90c89cc18718c8025128439e00
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv Repositorio Institucional Universidad Nacional de Colombia
repository.mail.fl_str_mv repositorio_nal@unal.edu.co
_version_ 1814089281393655808

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