Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía

Se diseñó e implementó un sistema óptico para la producción de patrones de intensidad de alta resolución (450 nm), el cual puede ser utilizado para el posterior desarrollo de un equipo de litografía óptica sin máscara (LOSM), adecuado para la generación de elementos ópticos difractivos1. En el equip...