Preparación y evaluación de nanoestructuras de TiO2 para aplicaciones tecnológicas en Memorias No Volátiles (NVM)

En el presente trabajo se depositaron películas delgadas de TiO2 y TiO2:Co por el método de “DC Magnetron Sputtering” usando como sustratos láminas de Ti, ITO/Vidrio e ITO/PET. Dentro de los parámetros de síntesis, se variaron la temperatura usada en el depósito junto con la temperatura de recocido...

Full description

Autores:
Avila Torres, Sandra Bibiana
Tipo de recurso:
Fecha de publicación:
2019
Institución:
Universidad Nacional de Colombia
Repositorio:
Universidad Nacional de Colombia
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repositorio.unal.edu.co:unal/76834
Acceso en línea:
https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/76834
http://bdigital.unal.edu.co/73705/
Palabra clave:
Memorias no volátiles,
DC Magnetron Sputtering, DC Magnetron Sputtering
Conmutación resistiva, Resistive switching
Alta resistencia, High resistance
Baja resistencia, Low resistance
Non-volatile memories
Rights
openAccess
License
Atribución-NoComercial 4.0 Internacional