Preparación y evaluación de nanoestructuras de TiO2 para aplicaciones tecnológicas en Memorias No Volátiles (NVM)
En el presente trabajo se depositaron películas delgadas de TiO2 y TiO2:Co por el método de “DC Magnetron Sputtering” usando como sustratos láminas de Ti, ITO/Vidrio e ITO/PET. Dentro de los parámetros de síntesis, se variaron la temperatura usada en el depósito junto con la temperatura de recocido...
- Autores:
-
Avila Torres, Sandra Bibiana
- Tipo de recurso:
- Fecha de publicación:
- 2019
- Institución:
- Universidad Nacional de Colombia
- Repositorio:
- Universidad Nacional de Colombia
- Idioma:
- spa
- OAI Identifier:
- oai:repositorio.unal.edu.co:unal/76834
- Acceso en línea:
- https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/76834
http://bdigital.unal.edu.co/73705/
- Palabra clave:
- Memorias no volátiles,
DC Magnetron Sputtering, DC Magnetron Sputtering
Conmutación resistiva, Resistive switching
Alta resistencia, High resistance
Baja resistencia, Low resistance
Non-volatile memories
- Rights
- openAccess
- License
- Atribución-NoComercial 4.0 Internacional