Caracterización eléctrica de un sistema de deposición de películas delgadas por plasma
El desarrollo de este trabajo, consiste básicamente en la caracterización eléctrica de un sistema de deposición de películas delgadas por plasma; este sistema consta de una cámara cilíndrica en acero inoxidable la cual contiene en su interior dos electrodos (ánodo-cátodo). Al generar un arco pulsado...
- Autores:
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García García, Luis Alpidio
- Tipo de recurso:
- Fecha de publicación:
- 2001
- Institución:
- Universidad Nacional de Colombia
- Repositorio:
- Universidad Nacional de Colombia
- Idioma:
- spa
- OAI Identifier:
- oai:repositorio.unal.edu.co:unal/7166
- Palabra clave:
- 53 Física / Physics
62 Ingeniería y operaciones afines / Engineering
Física del plasma, Descargas de arco en vacío, Sondas electrostáticas, Diagnóstico de plasma, Arcos (Electricidad), Sondas de plasma, Películas delgadas
- Rights
- openAccess
- License
- Atribución-NoComercial 4.0 Internacional
| Summary: | El desarrollo de este trabajo, consiste básicamente en la caracterización eléctrica de un sistema de deposición de películas delgadas por plasma; este sistema consta de una cámara cilíndrica en acero inoxidable la cual contiene en su interior dos electrodos (ánodo-cátodo). Al generar un arco pulsado entre ellos, se presenta un vigoroso vapor metálico utilizado para producir una capa muy delgada (recubrimiento) sobre un substrato. En este trabajo se calcularon parámetros básicos como temperatura electrónica (Te), densidad electrónica (ne), potencial del plasma en la región interelectródica, utilizando la técnica de sonda eléctrica doble. Análisis de las muestras y del material catódico utilizando microscopía de fuerza atómica y un microscopio electrónico permitió determinar los tipos de spots , modos de transición del arco e identificar macropartículas que son emitidas en estado liquido por el material catódico y que generan variaciones en lo parámetros del plasma. (Texto tomado de la fuente) |
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