Producción y caracterización de películas de TiN/TiC por PAPVD por arco pulsado variando la temperatura del sustrato

Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la técnica de deposición en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en valores de 85-100-115◦C. Los recubrimientos se analizaron por medio de Dispersi´on de Fotoelectrones de Rayos X (XPS)), Difracción de Rayos X (XRD) y simulados por Teoría de Funcionales de Densidad (DFT) por el método Hartree Fock no restringido. A partir del tratamiento de las se˜nales de los espectros angostos de XPS y los patrones de XRD, se determin´o la formación de los compuestos TiN (Nitruro de Titanio), TiC (Carburo de Titanio) con grupo espacial fm-3m correspondiente a las fases FCC de los compuestos sintetizados. A través de DFT se analizó la población de cargas de Mulliken y la densidad total de electrones, la formación de enlaces entre los elementos en la intercara llevan a la formación del compuesto TiCN y fue observada la neutralidad eléctrica y estabilidad energética. En la simulación se encontró las anomalías en las esquinas de las estructuras debidas al efecto borde, idealidad en la simulación y a la no inclusión de esfuerzos internos intr´ınsecos al proceso de crecimiento. El comportamiento tribol´ogico fue investigado utilizando la técnica de Ball on Disc (CSEM Tribometer) utilizando los parámetros estándar (10cm/s de velocidad, distancia 100m y 1N de carga (Texto tomado de la fuente)

• Autores: Devia Narváez, Diana Marcela
• Fecha de publicación: 2010
• Institución: Universidad Nacional de Colombia
• Repositorio: Universidad Nacional de Colombia
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.unal.edu.co:unal/70177
• Acceso en línea: https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/70177; http://bdigital.unal.edu.co/2355/
• Palabra clave: 53 Física / Physics; 66 Ingeniería química y Tecnologías relacionadas/ Chemical engineering; TiN; TiC; Bicapas; Temperatura; Interfase; Simulación; Fricción; Desgaste; Revestimientos protectores; Películas delgadas; Deposición física en fase vapor
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