Producción y caracterización de películas de TiN/TiC por PAPVD por arco pulsado variando la temperatura del sustrato

Las bicapas de TiN/TiC se depositaron utilizando la técnica de deposición en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en valores de 85-100-115◦C. Los recubrimientos se analizaron por medio de Dispersi´on de Fotoelectrones de Rayos X (XPS)), Difracción...

Full description

Autores:

Devia Narváez, Diana Marcela

Tipo de recurso:

Fecha de publicación:

2010

Institución:

Universidad Nacional de Colombia

Repositorio:

Universidad Nacional de Colombia

Idioma:

spa

OAI Identifier:

oai:repositorio.unal.edu.co:unal/70177

Acceso en línea:

https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/70177
http://bdigital.unal.edu.co/2355/

Palabra clave:

53 Física / Physics
66 Ingeniería química y Tecnologías relacionadas/ Chemical engineering
TiN
TiC
Bicapas
Temperatura
Interfase
Simulación
Fricción
Desgaste
Revestimientos protectores
Películas delgadas
Deposición física en fase vapor

Rights

openAccess

License

Atribución-NoComercial 4.0 Internacional