Diseño del sistema de control de equipo para tratamiento de materiales por plasma

El sistema está diseñado para obtener un alto vacío residual (menos de 10 [mPa]) en la cámara de trabajo con un volumen de 0,3 [m^3] y mantener la presión de funcionamiento en el rango de 0,1400 [Pa] con atmósfera de mezcla de gases controlada. El esquema se basa en un sistema de bombeo de dos etapas que utiliza dos bombas conectadas en serie, en la primera etapa se cuenta con una bomba rotativa de prevacío HBP16 que crea un vacío profundo de hasta 7 [Pa], luego una bomba turbo molecular de alto vacío tipo 01AB150004 que logra llevar la presión al orden de 10e4 [Pa]. Se utiliza una línea de bombeo de «bypass» para facilitar el funcionamiento y la posibilidad de abrir y servir la cámara. Se cuenta con un sistema para el suministro de gases en la cámara de trabajo, el cual es regulado con unas válvulas piezoeléctricas y se tiene un mezclador de dos canales que permite trabajar con una mezcla de dos gases o cambiar el gas de trabajo sin interrumpir el proceso de tratamiento de la muestra. El equipo tiene un sistema de generación de pulsos de alto voltaje de forma cercana a la rectangular con una variación en su amplitud de 5, 10, 20, 30, 40,50 y 60 [kV]. Su frecuencia de repetición de pulsos está en el rango de 160 [Hz] y la duración de los pulsos pueden variar entre 80 [us] hasta 2500 [us]. Este sistema de operación y control consta de 3 secciones, una para el control del sistema de vacío, otra para el control de flujo de gas y una última que permite monitorear parámetros de la descarga

• Autores: Bermúdez Montaña, Esgar Armando
• Tipo de recurso: http://purl.org/coar/version/c_b1a7d7d4d402bcce
• Fecha de publicación: 2021
• Institución: Universidad Industrial de Santander
• Repositorio: Repositorio UIS
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:noesis.uis.edu.co:20.500.14071/41501
• Acceso en línea: https://noesis.uis.edu.co/handle/20.500.14071/41501; https://noesis.uis.edu.co
• Palabra clave: Sistema de control; Plasma; Alto vacío; Bombeo; Flujo de gas; descarga eléctrica.; Control System; Plasma; High Vacuum; Pumping; Gas Flow; Electric Discharge.
• License: Attribution-NonCommercial 4.0 International (CC BY-NC 4.0)