Estudio del comportamiento de la corriente hall en un magnetrón sputtering con cátodo equipotencial y no equipotencial
Uno de los mecanismos más populares utilizados en la deposición de películas delgadas para el tratamiento de superficies es la pulverización catódica con magnetrón, donde la descarga se da en campos magnéticos y eléctricos cruzados. Los procesos físicos asociados con la generación y el mantenimiento...
- Autores:
-
Cárdenas Ayala, Paula Andrea
- Tipo de recurso:
- http://purl.org/coar/version/c_b1a7d7d4d402bcce
- Fecha de publicación:
- 2020
- Institución:
- Universidad Industrial de Santander
- Repositorio:
- Repositorio UIS
- Idioma:
- spa
- OAI Identifier:
- oai:noesis.uis.edu.co:20.500.14071/39732
- Palabra clave:
- Plasma
Corriente Hall
Magnetrón Sputtering.
Plasma Physics
Hall current
Magnetron Sputtering
- Rights
- License
- Attribution-NonCommercial 4.0 International (CC BY-NC 4.0)