Estudio del comportamiento de la corriente hall en un magnetrón sputtering con cátodo equipotencial y no equipotencial

Uno de los mecanismos más populares utilizados en la deposición de películas delgadas para el tratamiento de superficies es la pulverización catódica con magnetrón, donde la descarga se da en campos magnéticos y eléctricos cruzados. Los procesos físicos asociados con la generación y el mantenimiento...

Full description

Autores:
Cárdenas Ayala, Paula Andrea
Tipo de recurso:
http://purl.org/coar/version/c_b1a7d7d4d402bcce
Fecha de publicación:
2020
Institución:
Universidad Industrial de Santander
Repositorio:
Repositorio UIS
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:noesis.uis.edu.co:20.500.14071/39732
Acceso en línea:
https://noesis.uis.edu.co/handle/20.500.14071/39732
https://noesis.uis.edu.co
Palabra clave:
Plasma
Corriente Hall
Magnetrón Sputtering.
Plasma Physics
Hall current
Magnetron Sputtering
Rights
License
Attribution-NonCommercial 4.0 International (CC BY-NC 4.0)