Implementación de un sistema de supervisión y control de una unidad de acople de impedancias entre una fuente Rf y un plasma de descarga para un proceso de sputtering Rf

Descripción del proceso de implementación de un sistema de supervisión y control de una unidad de acople entre una fuente RF y un plasma de descarga para un proceso de pulverización catódica, sputtering RF.

Autores:

Tipo de recurso:

Trabajo de grado de pregrado

Fecha de publicación:

2017

Institución:

Universidad Distrital Francisco José de Caldas

Repositorio:

RIUD: repositorio U. Distrital

Idioma:

spa

OAI Identifier:

oai:repository.udistrital.edu.co:11349/7375

Acceso en línea:

http://hdl.handle.net/11349/7375

Palabra clave:

Pulverización catódica
Plasma
Radio frecuencia
Acople electromagnético
Ingeniería electrónica - Tesis y disertaciones académicas
Pulverización catódica (Metalización)
Impedancia (Electricidad)
Distribución de energía eléctrica
Sputtering
Plasma
Radio frequency
Electromagnetic coupling

Rights

License

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