Estudio de espesor para resinas AZ-1518 y AZ-nLOF2035 a partir de medidas ópticas multi-interfaz mediante elipsometría espectral

El proceso microlitográfico de circuitos con resinas fotosensibles requiere entender su comportamiento en condiciones de laboratorio, ya que el espesor de la capa depende de la viscosidad, densidad del líquido y velocidad de rotación. Este estudio se centra en las resinas AZ-1518 y AZ-nLOF2035, util...

Full description

Autores:
Sánchez Arroyave, Irene
Tipo de recurso:
Trabajo de grado de pregrado
Fecha de publicación:
2024
Institución:
Universidad Distrital Francisco José de Caldas
Repositorio:
RIUD: repositorio U. Distrital
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repository.udistrital.edu.co:11349/93679
Acceso en línea:
http://hdl.handle.net/11349/93679
Palabra clave:
Caracterización óptica
Elipsometría espectral
Resinas fotosensibles
AZ-1518, AZ-nLOF2035
Nuevo Amorfo
Licenciatura en Física -- Tesis y disertaciones académicas
Microlitografía
Elipsometría
Óptica -- Mediciones
Optical Characterization
Spectral Ellipsometry
Photosensitive Resins
AZ-1518, AZ-nLOF2035
New-Amorphous
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Mediante el modelo de Nuevo Amorfo, se logra un ajuste con una bondad estadística resaltable, adaptándose a diversas condiciones ambientales. La investigación busca relacionar el grosor de las capas con las revoluciones del centrifugado para optimizar el proceso litográfico.The microlithographic process for circuits with photosensitive resins requires understanding their behavior under laboratory conditions, as the layer thickness depends on the viscosity, liquid density, and rotation speed. This study focuses on the resins AZ-1518 and AZ-nLOF2035, using the spin-coating method, which ensures uniform deposition without tangential forces. It is essential to establish a specific calibration curve for laboratory conditions, as the curves provided by manufacturers may not fit these conditions. Spectral ellipsometry is the experimental technique used to characterize the samples, allowing for the measurement of optical constants and the determination of layer thickness. Through the New Amorphous model, a fit with remarkable statistical goodness is achieved, adapting to various environmental conditions. The research seeks to relate the layer thickness to the centrifuge revolutions to optimize the lithographic process.pdfspaCaracterización ópticaElipsometría espectralResinas fotosensiblesAZ-1518, AZ-nLOF2035Nuevo AmorfoLicenciatura en Física -- Tesis y disertaciones académicasMicrolitografíaElipsometríaÓptica -- MedicionesOptical CharacterizationSpectral EllipsometryPhotosensitive ResinsAZ-1518, AZ-nLOF2035New-AmorphousEstudio de espesor para resinas AZ-1518 y AZ-nLOF2035 a partir de medidas ópticas multi-interfaz mediante elipsometría espectralThickness study for AZ-1518 and AZ-nLOF2035 resins from multi-interface optical measurements using spectral ellipsometrybachelorThesisPasantíainfo:eu-repo/semantics/bachelorThesishttp://purl.org/coar/resource_type/c_7a1fAbierto (Texto Completo)http://purl.org/coar/access_right/c_abf2Forouhi, A. R., & Bloomer, I. (1986). Optical dispersion relations for amorphous se- miconductors and amorphous dielectrics. En Physical Review B (Vol. 34, Issue 10, pp. 7018–7026). American Physical Society (APS). https://doi.org/10.1103/physrevb. 34.7018Azzam, A., & Bashara, N. M. (1987). Ellipsometry and Polarized Light. North HollandHecht, E. (1998). Optics. Addison-WesleyORIGINALSanchezArroyaveIrene2024.pdfSanchezArroyaveIrene2024.pdfapplication/pdf12008788https://repository.udistrital.edu.co/bitstreams/bb14fd64-130c-4643-8500-a9393a315674/download51ba90c248b6c29d8deb7a23e613757cMD52Licencia de uso y autorizaciónLicencia de uso y autorizaciónapplication/pdf214241https://repository.udistrital.edu.co/bitstreams/afcabd20-4737-4008-b601-cf3b1fefd70f/downloadb4abb400a8485ad8cd73fd3f46520553MD51LICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-87167https://repository.udistrital.edu.co/bitstreams/6b4c94e3-e4ff-452c-9504-8305f12232ec/download997daf6c648c962d566d7b082dac908dMD53THUMBNAILSanchezArroyaveIrene2024.pdf.jpgSanchezArroyaveIrene2024.pdf.jpgIM Thumbnailimage/jpeg6839https://repository.udistrital.edu.co/bitstreams/86ea61ed-f0f5-42b4-88b0-956217820128/download409a369a65cea85c7446954058744e17MD54Licencia de uso y autorización.jpgLicencia de uso y autorización.jpgIM 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