Sputtering en la descarga luminiscente anormal a 800 °C

Durante los procesos de tratamiento superficial o de sinterización en el cátodo de una descarga luminiscente anormal es inevitable la presencia del sputtering, debido al bombardeo de la superficie de la pieza por iones y especies neutras rápidas. En este trabajo se reporta el sputtering sufrido por...

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Autores:
Tipo de recurso:
Fecha de publicación:
2013
Institución:
Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia
Repositorio:
RiUPTC: Repositorio Institucional UPTC
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repositorio.uptc.edu.co:001/14067
Acceso en línea:
https://revistas.uptc.edu.co/index.php/ingenieria/article/view/2218
https://repositorio.uptc.edu.co/handle/001/14067
Palabra clave:
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License
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