CNx thin films grown by PLD at different temperatures

Carbon Nitride (CNx) thin films were grown by pulsed laser deposition using a Nd:YAG laser (1064 nm, 500mJ), in a graphite target (99.999%) on Si(100) substrate for three different temperatures 21, 50 and 200 °C, in a nitrogen atmosphere at constant pressure of 2,66 Pa. The FTIR’s analysis made to t...

Full description

Autores:

Jorge Luis Gallego Cano; Universidad Tecnológica de Pereira, Colombia
Deisy Ramírez Vinasco; Universidad Tecnológica de Pereira, Colombia
Henry Riascos Landázuri; Universidad Tecnológica de Pereira, Colombia
Leonid Ipaz; Universidad del Valle, Colombia
Juan Muñoz Saldaña; Instituto Politécnico Nacional, México

Tipo de recurso:

Fecha de publicación:

2011

Institución:

Universidad del Norte

Repositorio:

Repositorio Uninorte

Idioma:

spa

OAI Identifier:

oai:manglar.uninorte.edu.co:10584/4145

Acceso en línea:

http://rcientificas.uninorte.edu.co/index.php/ingenieria/article/view/2882
http://hdl.handle.net/10584/4145

Palabra clave:

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License

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