Obtención y caracterización de películas delgadas de Cu/Ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa

Se presenta la implementación de la técnica de corriente pulsante inversa para electrodepositar películas delgadas Cu/Ni en forma de bicapa sobre sustratos de zamak, controlando los voltajes y tiempos de electrodeposición anódicos (VLow, TLow) y catódicos (VHigh, THigh), obteniendo como respuesta el...

Full description

Autores:
Aperador Chaparro, William Arnulfo
Vera López, Enrique
Camargo López , Edwin Ariel
Laverde, Dionisio
Guerrero, John Wilver
Mora Parada, José Manuel
Álvarez, Miguel Ángel
Tipo de recurso:
Article of investigation
Fecha de publicación:
2006
Institución:
Escuela Colombiana de Ingeniería Julio Garavito
Repositorio:
Repositorio Institucional ECI
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repositorio.escuelaing.edu.co:001/2385
Acceso en línea:
https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2385
Palabra clave:
Corriente pulsante inversa
Corriente directa
AFM
EDX
Electrodeposición de Cu-Ni
Pulsating Inverse Current (PRC)
Direct Current (DC)
AFM
EDX
Electroplating of Cu-Ni
Rights
closedAccess
License
http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
id ESCUELAIG2_d1bc3d6891d3224ff01831862ba8df27
oai_identifier_str oai:repositorio.escuelaing.edu.co:001/2385
network_acronym_str ESCUELAIG2
network_name_str Repositorio Institucional ECI
repository_id_str
dc.title.spa.fl_str_mv Obtención y caracterización de películas delgadas de Cu/Ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa
title Obtención y caracterización de películas delgadas de Cu/Ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa
spellingShingle Obtención y caracterización de películas delgadas de Cu/Ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa
Corriente pulsante inversa
Corriente directa
AFM
EDX
Electrodeposición de Cu-Ni
Pulsating Inverse Current (PRC)
Direct Current (DC)
AFM
EDX
Electroplating of Cu-Ni
title_short Obtención y caracterización de películas delgadas de Cu/Ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa
title_full Obtención y caracterización de películas delgadas de Cu/Ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa
title_fullStr Obtención y caracterización de películas delgadas de Cu/Ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa
title_full_unstemmed Obtención y caracterización de películas delgadas de Cu/Ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa
title_sort Obtención y caracterización de películas delgadas de Cu/Ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa
dc.creator.fl_str_mv Aperador Chaparro, William Arnulfo
Vera López, Enrique
Camargo López , Edwin Ariel
Laverde, Dionisio
Guerrero, John Wilver
Mora Parada, José Manuel
Álvarez, Miguel Ángel
dc.contributor.author.none.fl_str_mv Aperador Chaparro, William Arnulfo
Vera López, Enrique
Camargo López , Edwin Ariel
Laverde, Dionisio
Guerrero, John Wilver
Mora Parada, José Manuel
Álvarez, Miguel Ángel
dc.contributor.researchgroup.spa.fl_str_mv Grupo de Investigación Ecitrónica
dc.subject.proposal.spa.fl_str_mv Corriente pulsante inversa
Corriente directa
AFM
EDX
Electrodeposición de Cu-Ni
topic Corriente pulsante inversa
Corriente directa
AFM
EDX
Electrodeposición de Cu-Ni
Pulsating Inverse Current (PRC)
Direct Current (DC)
AFM
EDX
Electroplating of Cu-Ni
dc.subject.proposal.eng.fl_str_mv Pulsating Inverse Current (PRC)
Direct Current (DC)
AFM
EDX
Electroplating of Cu-Ni
description Se presenta la implementación de la técnica de corriente pulsante inversa para electrodepositar películas delgadas Cu/Ni en forma de bicapa sobre sustratos de zamak, controlando los voltajes y tiempos de electrodeposición anódicos (VLow, TLow) y catódicos (VHigh, THigh), obteniendo como respuesta el monitoreo de la corriente anódica (ILow) y catódica (IHigh) en función del tiempo anódico (TLow) y catódico (THigh), respectivamente. Utilizando Microscopía de Fuerza Atómica (AFM) se observó que el control pulsante del voltaje durante el depósito permite obtener películas de Cu/Ni más densas y de tamaño de grano más fino, que las películas convencionales depositadas por la técnica de corriente directa. Se determinó la composición química de las capas usando la sonda de difracción de rayos X (EDX) con el microscopio electrónico de barrido.
publishDate 2006
dc.date.issued.none.fl_str_mv 2006
dc.date.accessioned.none.fl_str_mv 2023-06-05T20:22:52Z
dc.date.available.none.fl_str_mv 2023-06-05T20:22:52Z
dc.type.spa.fl_str_mv Artículo de revista
dc.type.coarversion.fl_str_mv http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
dc.type.version.spa.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.coar.spa.fl_str_mv http://purl.org/coar/resource_type/c_2df8fbb1
dc.type.content.spa.fl_str_mv Text
dc.type.driver.spa.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
dc.type.redcol.spa.fl_str_mv http://purl.org/redcol/resource_type/ART
format http://purl.org/coar/resource_type/c_2df8fbb1
status_str publishedVersion
dc.identifier.issn.spa.fl_str_mv 0120-2650
dc.identifier.uri.none.fl_str_mv https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2385
identifier_str_mv 0120-2650
url https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2385
dc.language.iso.spa.fl_str_mv spa
language spa
dc.relation.citationendpage.spa.fl_str_mv 1346
dc.relation.citationissue.spa.fl_str_mv 4
dc.relation.citationstartpage.spa.fl_str_mv 1343
dc.relation.citationvolume.spa.fl_str_mv 38
dc.relation.indexed.spa.fl_str_mv N/A
dc.relation.ispartofjournal.spa.fl_str_mv Revista Colombiana de Física
dc.relation.references.spa.fl_str_mv F. Lowenhweim, Modern Electroplating, 2ª ed. John Wiley & Sons, New York, 1963.
A.M. El-Sherik, U. Erb, J Page, Surf Coat Techn., 1996, 88, 70.
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S. Pagotto, C. Alvarenga, M. Ballester, Surf Coat Techn., 1999, 122, 10
dc.rights.coar.fl_str_mv http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
dc.rights.accessrights.spa.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/closedAccess
eu_rights_str_mv closedAccess
rights_invalid_str_mv http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
dc.format.extent.spa.fl_str_mv 4 páginas
dc.format.mimetype.spa.fl_str_mv application/pdf
dc.publisher.spa.fl_str_mv Universidad de Antioquia
dc.publisher.place.spa.fl_str_mv Colombia
institution Escuela Colombiana de Ingeniería Julio Garavito
bitstream.url.fl_str_mv https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2385/4/Obtenci%c3%b3n%20y%20caracterizaci%c3%b3n%20de%20pel%c3%adculas%20delgadas%20de%20cu-ni%20sobre%20sustratos%20de%20zamak%20medante%20la%20t%c3%a9cnica%20de%20corriente%20pulsante%20inversa.pdf.jpg
https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2385/3/Obtenci%c3%b3n%20y%20caracterizaci%c3%b3n%20de%20pel%c3%adculas%20delgadas%20de%20cu-ni%20sobre%20sustratos%20de%20zamak%20medante%20la%20t%c3%a9cnica%20de%20corriente%20pulsante%20inversa.pdf.txt
https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2385/2/license.txt
https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2385/1/Obtenci%c3%b3n%20y%20caracterizaci%c3%b3n%20de%20pel%c3%adculas%20delgadas%20de%20cu-ni%20sobre%20sustratos%20de%20zamak%20medante%20la%20t%c3%a9cnica%20de%20corriente%20pulsante%20inversa.pdf
bitstream.checksum.fl_str_mv 7c6fb2a9dfad909556890fa650e72a07
327b3cdcefaa7087e5e7b409f48845e0
5a7ca94c2e5326ee169f979d71d0f06e
6e126d6f6342f458c23bde7e268bb4b2
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv Repositorio Escuela Colombiana de Ingeniería Julio Garavito
repository.mail.fl_str_mv repositorio.eci@escuelaing.edu.co
_version_ 1814355632185147392
spelling Aperador Chaparro, William Arnulfod0ab25696c12a7e94a910bc7647be528600Vera López, Enrique62ea7ee84bb14ffebacc75f0745d92b7600Camargo López , Edwin Ariel aef59ced47934604d8fcefaf67c87e66600Laverde, Dionisioa063bdfda26b3bcf53665c0dcf266526600Guerrero, John Wilver3bf775e947f8c8b5977c6c0f861860c3600Mora Parada, José Manuel6803c4b2cf93dbc5d9ede2e63e831a18600Álvarez, Miguel Ángel29b7a5fabfd9a0ec2d7f85d0351d9cce600Grupo de Investigación Ecitrónica2023-06-05T20:22:52Z2023-06-05T20:22:52Z20060120-2650https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2385Se presenta la implementación de la técnica de corriente pulsante inversa para electrodepositar películas delgadas Cu/Ni en forma de bicapa sobre sustratos de zamak, controlando los voltajes y tiempos de electrodeposición anódicos (VLow, TLow) y catódicos (VHigh, THigh), obteniendo como respuesta el monitoreo de la corriente anódica (ILow) y catódica (IHigh) en función del tiempo anódico (TLow) y catódico (THigh), respectivamente. Utilizando Microscopía de Fuerza Atómica (AFM) se observó que el control pulsante del voltaje durante el depósito permite obtener películas de Cu/Ni más densas y de tamaño de grano más fino, que las películas convencionales depositadas por la técnica de corriente directa. Se determinó la composición química de las capas usando la sonda de difracción de rayos X (EDX) con el microscopio electrónico de barrido.The implementation of the Pulsating Inverse Current (PRC) technique is presented to electroplate Cu/Ni thin films on bi-layer zamak substrates, controlling the voltages and anodic electroplating (VLow, TLow) times and cathodic (VHigh, THigh) times, obtaining the monitoring of the anodic (ILow) and cathodic (IHigh) currents based on the anodic (TLow) and cathodic (THigh) times, respectively. Using Atomic Force of Microscopy (AFM), it was observed that the pulsating control of the voltage during the deposit allowed obtaining denser and finer grain Cu/Ni films, rather than the conventional films deposited by the technique of direct current. Furthermore, The chemical composition of the layers was determined using the sounding of diffraction X ray (EDX) with the Scanning Electronic Microscope (SEM).4 páginasapplication/pdfspaUniversidad de AntioquiaColombiaObtención y caracterización de películas delgadas de Cu/Ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversaArtículo de revistainfo:eu-repo/semantics/publishedVersionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_2df8fbb1Textinfo:eu-repo/semantics/articlehttp://purl.org/redcol/resource_type/ARThttp://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a8513464134338N/ARevista Colombiana de FísicaF. Lowenhweim, Modern Electroplating, 2ª ed. John Wiley & Sons, New York, 1963.A.M. El-Sherik, U. Erb, J Page, Surf Coat Techn., 1996, 88, 70.BRADLEY, P. E. Pulse plating of cobalt iron copper alloys. Institut de microsysteámes, ecole Polytechnique FeÂdeÂrale de Lausanne, Switzerland (2000).BERGENSTOF. C. N. On texture formation of nickel electrodeposits. Institute of Process Technology, The Technical University of Denmark, DK-2800 Lyngby, Denmark. 1996.S. Pagotto, C. Alvarenga, M. Ballester, Surf Coat Techn., 1999, 122, 10info:eu-repo/semantics/closedAccesshttp://purl.org/coar/access_right/c_14cbCorriente pulsante inversaCorriente directaAFMEDXElectrodeposición de Cu-NiPulsating Inverse Current (PRC)Direct Current (DC)AFMEDXElectroplating of Cu-NiTHUMBNAILObtención y caracterización de películas delgadas de cu-ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa.pdf.jpgObtención y caracterización de películas delgadas de cu-ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg12218https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2385/4/Obtenci%c3%b3n%20y%20caracterizaci%c3%b3n%20de%20pel%c3%adculas%20delgadas%20de%20cu-ni%20sobre%20sustratos%20de%20zamak%20medante%20la%20t%c3%a9cnica%20de%20corriente%20pulsante%20inversa.pdf.jpg7c6fb2a9dfad909556890fa650e72a07MD54open accessTEXTObtención y caracterización de películas delgadas de cu-ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa.pdf.txtObtención y caracterización de películas delgadas de cu-ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa.pdf.txtExtracted texttext/plain9878https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2385/3/Obtenci%c3%b3n%20y%20caracterizaci%c3%b3n%20de%20pel%c3%adculas%20delgadas%20de%20cu-ni%20sobre%20sustratos%20de%20zamak%20medante%20la%20t%c3%a9cnica%20de%20corriente%20pulsante%20inversa.pdf.txt327b3cdcefaa7087e5e7b409f48845e0MD53open accessLICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-81881https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2385/2/license.txt5a7ca94c2e5326ee169f979d71d0f06eMD52open accessORIGINALObtención y caracterización de películas delgadas de cu-ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa.pdfObtención y caracterización de películas delgadas de cu-ni sobre sustratos de zamak medante la técnica de corriente pulsante inversa.pdfArtículo de revistaapplication/pdf171708https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2385/1/Obtenci%c3%b3n%20y%20caracterizaci%c3%b3n%20de%20pel%c3%adculas%20delgadas%20de%20cu-ni%20sobre%20sustratos%20de%20zamak%20medante%20la%20t%c3%a9cnica%20de%20corriente%20pulsante%20inversa.pdf6e126d6f6342f458c23bde7e268bb4b2MD51open access001/2385oai:repositorio.escuelaing.edu.co:001/23852023-06-06 03:01:16.963open accessRepositorio Escuela Colombiana de Ingeniería Julio Garavitorepositorio.eci@escuelaing.edu.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