Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F
Se depositaron películas delgadas de nitruro de aluminio, AlN, por el método de magnetrón sputtering r.f. reactivo usando un blanco de aluminio (99.9 %), sobre sustratos de silicio [100] y acero Rus-3, para investigar la influencia del voltaje de polarización bias d.c. sobre las películas obtenidas....
- Autores:
-
Yate, Luis
Aperador Chaparro, William Arnulfo
Caicedo, Julio Cesar
Zambrano, Gustavo
Espinoza Beltrán, F. J
Muñoz Saldaña, Juan
- Tipo de recurso:
- Article of investigation
- Fecha de publicación:
- 2009
- Institución:
- Escuela Colombiana de Ingeniería Julio Garavito
- Repositorio:
- Repositorio Institucional ECI
- Idioma:
- spa
- OAI Identifier:
- oai:repositorio.escuelaing.edu.co:001/2354
- Acceso en línea:
- https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2354
- Palabra clave:
- Electroquímica
Espectroscopía por rayos-X
Magnetrones
Electrochemistry
X-ray spectroscopy
Magnetrons
Nitruro de aluminio
Magnetrón sputtering
Propiedades electroquímicas
Aluminum nitride
Magnetron sputtering
Electrochemical properties
- Rights
- closedAccess
- License
- http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
| id |
ESCUELAIG2_1ddca6467d616f56db376290552ed4b1 |
|---|---|
| oai_identifier_str |
oai:repositorio.escuelaing.edu.co:001/2354 |
| network_acronym_str |
ESCUELAIG2 |
| network_name_str |
Repositorio Institucional ECI |
| repository_id_str |
|
| dc.title.spa.fl_str_mv |
Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F |
| title |
Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F |
| spellingShingle |
Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F Electroquímica Espectroscopía por rayos-X Magnetrones Electrochemistry X-ray spectroscopy Magnetrons Nitruro de aluminio Magnetrón sputtering Propiedades electroquímicas Aluminum nitride Magnetron sputtering Electrochemical properties |
| title_short |
Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F |
| title_full |
Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F |
| title_fullStr |
Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F |
| title_full_unstemmed |
Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F |
| title_sort |
Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F |
| dc.creator.fl_str_mv |
Yate, Luis Aperador Chaparro, William Arnulfo Caicedo, Julio Cesar Zambrano, Gustavo Espinoza Beltrán, F. J Muñoz Saldaña, Juan |
| dc.contributor.author.none.fl_str_mv |
Yate, Luis Aperador Chaparro, William Arnulfo Caicedo, Julio Cesar Zambrano, Gustavo Espinoza Beltrán, F. J Muñoz Saldaña, Juan |
| dc.contributor.researchgroup.spa.fl_str_mv |
Grupo de Investigación Ecitrónica |
| dc.subject.armarc.spa.fl_str_mv |
Electroquímica Espectroscopía por rayos-X Magnetrones |
| topic |
Electroquímica Espectroscopía por rayos-X Magnetrones Electrochemistry X-ray spectroscopy Magnetrons Nitruro de aluminio Magnetrón sputtering Propiedades electroquímicas Aluminum nitride Magnetron sputtering Electrochemical properties |
| dc.subject.armarc.eng.fl_str_mv |
Electrochemistry X-ray spectroscopy Magnetrons |
| dc.subject.proposal.spa.fl_str_mv |
Nitruro de aluminio Magnetrón sputtering Propiedades electroquímicas |
| dc.subject.proposal.eng.fl_str_mv |
Aluminum nitride Magnetron sputtering Electrochemical properties |
| description |
Se depositaron películas delgadas de nitruro de aluminio, AlN, por el método de magnetrón sputtering r.f. reactivo usando un blanco de aluminio (99.9 %), sobre sustratos de silicio [100] y acero Rus-3, para investigar la influencia del voltaje de polarización bias d.c. sobre las películas obtenidas. Los análisis de EDS mostraron que las diferentes películas presentaron composiciones de Al y N entre 89% y 85% y 10% y 14%, respectivamente. Por medio de análisis de FTIR, se encontró la presencia de modos activos alrededor de 680 cm-1 asociados a la fase wurtzita del AlN, y alrededor de 600, 950 y 980 cm-1 asociados a estructuras amorfas de Al-N y óxidos en las películas. Las propiedades electroquímicas de los recubrimientos crecidos a diferentes voltajes bias fueron comparadas con el sustrato de acero RUS-3, mediante la espectroscopia de impedancia electroquímica (EIS) y con curvas de polarización Tafel. La velocidad de corrosión de las muestras depositadas a 0V y -80V (9.5 y 27.9 mpy, respectivamente) fueron menores que la del acero sin recubrir (33.1 mpy), mostrando el efecto protector de la capa de AlN depositada. |
| publishDate |
2009 |
| dc.date.issued.none.fl_str_mv |
2009 |
| dc.date.accessioned.none.fl_str_mv |
2023-05-23T16:40:32Z |
| dc.date.available.none.fl_str_mv |
2023-05-23T16:40:32Z |
| dc.type.spa.fl_str_mv |
Artículo de revista |
| dc.type.coarversion.fl_str_mv |
http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |
| dc.type.version.spa.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
| dc.type.coar.spa.fl_str_mv |
http://purl.org/coar/resource_type/c_2df8fbb1 |
| dc.type.content.spa.fl_str_mv |
Text |
| dc.type.driver.spa.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/article |
| dc.type.redcol.spa.fl_str_mv |
http://purl.org/redcol/resource_type/ART |
| format |
http://purl.org/coar/resource_type/c_2df8fbb1 |
| status_str |
publishedVersion |
| dc.identifier.issn.spa.fl_str_mv |
0120-2650 |
| dc.identifier.uri.none.fl_str_mv |
https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2354 |
| identifier_str_mv |
0120-2650 |
| url |
https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2354 |
| dc.language.iso.spa.fl_str_mv |
spa |
| language |
spa |
| dc.relation.citationendpage.spa.fl_str_mv |
42 |
| dc.relation.citationissue.spa.fl_str_mv |
1 |
| dc.relation.citationstartpage.spa.fl_str_mv |
40 |
| dc.relation.citationvolume.spa.fl_str_mv |
41 |
| dc.relation.indexed.spa.fl_str_mv |
N/A |
| dc.relation.ispartofjournal.spa.fl_str_mv |
Revista Colombiana de Física |
| dc.relation.references.spa.fl_str_mv |
J. Hwang, et. al. Solid-State Electron., 36, 348 (2004) C. Men, et. al. Phys. B Condens. Matter., 229, 324 (2002). W. Smetana, et. al. Sens. Actuators, A, Phys., 213, 58 (1997). V. Mortet, et. al. Surf. Coat. Technol., 88, 176 (2003). T. A. Rawdanowics, et al. Composites: Part B, 657, 30 (1999). R. S. Pessoa, et. al. Diamond & Related Materials, 16, 1433, (2007). J. Ning, et al. Thin Solid Films, 55, 385 (2001). A. Raveh, et al. Surface and Coatings Technology, 269, 114 (1999). J.E.B. Randles, Discuss. Faraday Soc., 11, 1 (1947). F. M. Al-Kharafi, et. al. Electrochimica Acta, 579, 42-4 (1997). H. Altun, et. al. Surface & Coatings Technology, 193, 197 (2005). H. Schäfer, et. al. Corrosion Science, 953, 47 (2005). |
| dc.rights.coar.fl_str_mv |
http://purl.org/coar/access_right/c_14cb |
| dc.rights.accessrights.spa.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/closedAccess |
| eu_rights_str_mv |
closedAccess |
| rights_invalid_str_mv |
http://purl.org/coar/access_right/c_14cb |
| dc.format.extent.spa.fl_str_mv |
3 páginas |
| dc.format.mimetype.spa.fl_str_mv |
application/pdf |
| dc.publisher.place.spa.fl_str_mv |
Colombia |
| institution |
Escuela Colombiana de Ingeniería Julio Garavito |
| bitstream.url.fl_str_mv |
https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2354/4/Efecto%20del%20Voltaje%20Bias%20D.C.%20en%20las%20Propiedades%20Electroqu%c3%admicas%20de%20Pel%c3%adculas%20Delgadas%20de%20AlN%20Obtenidas%20por%20Medio%20de%20la%20T%c3%a9cnica%20Magnetr%c3%b3n%20Sputtering%20R.F-2-4.pdf.jpg https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2354/3/Efecto%20del%20Voltaje%20Bias%20D.C.%20en%20las%20Propiedades%20Electroqu%c3%admicas%20de%20Pel%c3%adculas%20Delgadas%20de%20AlN%20Obtenidas%20por%20Medio%20de%20la%20T%c3%a9cnica%20Magnetr%c3%b3n%20Sputtering%20R.F-2-4.pdf.txt https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2354/2/license.txt https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2354/1/Efecto%20del%20Voltaje%20Bias%20D.C.%20en%20las%20Propiedades%20Electroqu%c3%admicas%20de%20Pel%c3%adculas%20Delgadas%20de%20AlN%20Obtenidas%20por%20Medio%20de%20la%20T%c3%a9cnica%20Magnetr%c3%b3n%20Sputtering%20R.F-2-4.pdf |
| bitstream.checksum.fl_str_mv |
cab239c768e1b6b7d02350d125fbd053 c620232991957b569bfa7c6663bd7fbe 5a7ca94c2e5326ee169f979d71d0f06e 8ce7c00e6208658f78d6ee6dabde3ecd |
| bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv |
MD5 MD5 MD5 MD5 |
| repository.name.fl_str_mv |
Repositorio Escuela Colombiana de Ingeniería Julio Garavito |
| repository.mail.fl_str_mv |
repositorio.eci@escuelaing.edu.co |
| _version_ |
1814355630619623424 |
| spelling |
Yate, Luis0266a9b33cd7d4e25485c7481ec3b3f6600Aperador Chaparro, William Arnulfod0ab25696c12a7e94a910bc7647be528600Caicedo, Julio Cesarf512b138afe77d4e7bfce5d36c13debb600Zambrano, Gustavo2d9f7ab07ea6d5abc1fff1d6396340dc600Espinoza Beltrán, F. J7403756a364448597a4127122d83b1c8600Muñoz Saldaña, Juan5f1e80d153b294a7e0c6675098e48575600Grupo de Investigación Ecitrónica2023-05-23T16:40:32Z2023-05-23T16:40:32Z20090120-2650https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2354Se depositaron películas delgadas de nitruro de aluminio, AlN, por el método de magnetrón sputtering r.f. reactivo usando un blanco de aluminio (99.9 %), sobre sustratos de silicio [100] y acero Rus-3, para investigar la influencia del voltaje de polarización bias d.c. sobre las películas obtenidas. Los análisis de EDS mostraron que las diferentes películas presentaron composiciones de Al y N entre 89% y 85% y 10% y 14%, respectivamente. Por medio de análisis de FTIR, se encontró la presencia de modos activos alrededor de 680 cm-1 asociados a la fase wurtzita del AlN, y alrededor de 600, 950 y 980 cm-1 asociados a estructuras amorfas de Al-N y óxidos en las películas. Las propiedades electroquímicas de los recubrimientos crecidos a diferentes voltajes bias fueron comparadas con el sustrato de acero RUS-3, mediante la espectroscopia de impedancia electroquímica (EIS) y con curvas de polarización Tafel. La velocidad de corrosión de las muestras depositadas a 0V y -80V (9.5 y 27.9 mpy, respectivamente) fueron menores que la del acero sin recubrir (33.1 mpy), mostrando el efecto protector de la capa de AlN depositada.Aluminum nitride thin films were deposited onto Si [100] and Rus-3 steel substrates by reactive magnetron sputtering technique from an Al (99.9%) target, in order to study the influence of the d.c. bias polarisation voltage on the obtained films. EDS analysis showed that films presented compositions of Al and N between 89% and 85% and 10% and 14%, respectively. By means of FTIR analysis, was found the presence of active modes around 680 cm-1 associated to the AlN wurtzita phase, and around 600, 950 and 980 cm-1 associated to Al-N amorphous structures and oxides in the films. The electrochemical properties of the coatings growth at different bias voltages were compared with the RUS-3 substrate, by means of electrochemical impedance spectroscopy (EIS), and with Tafel polarization curves. The corrosion speed of the coatings growth at 0 and -80V (27.9 and 9.5 mpy, respectively) were lowers than that from the steel without coating (33.1 mpy), showing the protective effect of the AlN deposited films.3 páginasapplication/pdfspaEfecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.FArtículo de revistainfo:eu-repo/semantics/publishedVersionhttp://purl.org/coar/resource_type/c_2df8fbb1Textinfo:eu-repo/semantics/articlehttp://purl.org/redcol/resource_type/ARThttp://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85MagnetronesAnálisis de FourierMagnetronsFourier analysisColombia4214041N/ARevista Colombiana de FísicaJ. Hwang, et. al. Solid-State Electron., 36, 348 (2004)C. Men, et. al. Phys. B Condens. Matter., 229, 324 (2002).W. Smetana, et. al. Sens. Actuators, A, Phys., 213, 58 (1997).V. Mortet, et. al. Surf. Coat. Technol., 88, 176 (2003).T. A. Rawdanowics, et al. Composites: Part B, 657, 30 (1999).R. S. Pessoa, et. al. Diamond & Related Materials, 16, 1433, (2007).J. Ning, et al. Thin Solid Films, 55, 385 (2001).A. Raveh, et al. Surface and Coatings Technology, 269, 114 (1999).J.E.B. Randles, Discuss. Faraday Soc., 11, 1 (1947).F. M. Al-Kharafi, et. al. Electrochimica Acta, 579, 42-4 (1997).H. Altun, et. al. Surface & Coatings Technology, 193, 197 (2005).H. Schäfer, et. al. Corrosion Science, 953, 47 (2005).info:eu-repo/semantics/closedAccesshttp://purl.org/coar/access_right/c_14cbElectroquímicaEspectroscopía por rayos-XMagnetronesElectrochemistryX-ray spectroscopyMagnetronsNitruro de aluminioMagnetrón sputteringPropiedades electroquímicasAluminum nitrideMagnetron sputteringElectrochemical propertiesTHUMBNAILEfecto del Voltaje Bias D.C. en las Propiedades Electroquímicas de Películas Delgadas de AlN Obtenidas por Medio de la Técnica Magnetrón Sputtering R.F-2-4.pdf.jpgEfecto del Voltaje Bias D.C. en las Propiedades Electroquímicas de Películas Delgadas de AlN Obtenidas por Medio de la Técnica Magnetrón Sputtering R.F-2-4.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg14270https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2354/4/Efecto%20del%20Voltaje%20Bias%20D.C.%20en%20las%20Propiedades%20Electroqu%c3%admicas%20de%20Pel%c3%adculas%20Delgadas%20de%20AlN%20Obtenidas%20por%20Medio%20de%20la%20T%c3%a9cnica%20Magnetr%c3%b3n%20Sputtering%20R.F-2-4.pdf.jpgcab239c768e1b6b7d02350d125fbd053MD54open accessTEXTEfecto del Voltaje Bias D.C. en las Propiedades Electroquímicas de Películas Delgadas de AlN Obtenidas por Medio de la Técnica Magnetrón Sputtering R.F-2-4.pdf.txtEfecto del Voltaje Bias D.C. en las Propiedades Electroquímicas de Películas Delgadas de AlN Obtenidas por Medio de la Técnica Magnetrón Sputtering R.F-2-4.pdf.txtExtracted texttext/plain13095https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2354/3/Efecto%20del%20Voltaje%20Bias%20D.C.%20en%20las%20Propiedades%20Electroqu%c3%admicas%20de%20Pel%c3%adculas%20Delgadas%20de%20AlN%20Obtenidas%20por%20Medio%20de%20la%20T%c3%a9cnica%20Magnetr%c3%b3n%20Sputtering%20R.F-2-4.pdf.txtc620232991957b569bfa7c6663bd7fbeMD53open accessLICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-81881https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2354/2/license.txt5a7ca94c2e5326ee169f979d71d0f06eMD52open accessORIGINALEfecto del Voltaje Bias D.C. en las Propiedades Electroquímicas de Películas Delgadas de AlN Obtenidas por Medio de la Técnica Magnetrón Sputtering R.F-2-4.pdfEfecto del Voltaje Bias D.C. en las Propiedades Electroquímicas de Películas Delgadas de AlN Obtenidas por Medio de la Técnica Magnetrón Sputtering R.F-2-4.pdfArtículo de revistaapplication/pdf174611https://repositorio.escuelaing.edu.co/bitstream/001/2354/1/Efecto%20del%20Voltaje%20Bias%20D.C.%20en%20las%20Propiedades%20Electroqu%c3%admicas%20de%20Pel%c3%adculas%20Delgadas%20de%20AlN%20Obtenidas%20por%20Medio%20de%20la%20T%c3%a9cnica%20Magnetr%c3%b3n%20Sputtering%20R.F-2-4.pdf8ce7c00e6208658f78d6ee6dabde3ecdMD51open access001/2354oai:repositorio.escuelaing.edu.co:001/23542023-09-29 11:44:21.269open accessRepositorio Escuela Colombiana de Ingeniería Julio Garavitorepositorio.eci@escuelaing.edu.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 |