Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F

Se depositaron películas delgadas de nitruro de aluminio, AlN, por el método de magnetrón sputtering r.f. reactivo usando un blanco de aluminio (99.9 %), sobre sustratos de silicio [100] y acero Rus-3, para investigar la influencia del voltaje de polarización bias d.c. sobre las películas obtenidas....

Full description

Autores:

Yate, Luis
Aperador Chaparro, William Arnulfo
Caicedo, Julio Cesar
Zambrano, Gustavo
Espinoza Beltrán, F. J
Muñoz Saldaña, Juan

Tipo de recurso:

Article of investigation

Fecha de publicación:

2009

Institución:

Escuela Colombiana de Ingeniería Julio Garavito

Repositorio:

Repositorio Institucional ECI

Idioma:

spa

OAI Identifier:

oai:repositorio.escuelaing.edu.co:001/2354

Acceso en línea:

https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2354

Palabra clave:

Electroquímica
Espectroscopía por rayos-X
Magnetrones
Electrochemistry
X-ray spectroscopy
Magnetrons
Nitruro de aluminio
Magnetrón sputtering
Propiedades electroquímicas
Aluminum nitride
Magnetron sputtering
Electrochemical properties

Rights

closedAccess

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