Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F

Se depositaron películas delgadas de nitruro de aluminio, AlN, por el método de magnetrón sputtering r.f. reactivo usando un blanco de aluminio (99.9 %), sobre sustratos de silicio [100] y acero Rus-3, para investigar la influencia del voltaje de polarización bias d.c. sobre las películas obtenidas. Los análisis de EDS mostraron que las diferentes películas presentaron composiciones de Al y N entre 89% y 85% y 10% y 14%, respectivamente. Por medio de análisis de FTIR, se encontró la presencia de modos activos alrededor de 680 cm-1 asociados a la fase wurtzita del AlN, y alrededor de 600, 950 y 980 cm-1 asociados a estructuras amorfas de Al-N y óxidos en las películas. Las propiedades electroquímicas de los recubrimientos crecidos a diferentes voltajes bias fueron comparadas con el sustrato de acero RUS-3, mediante la espectroscopia de impedancia electroquímica (EIS) y con curvas de polarización Tafel. La velocidad de corrosión de las muestras depositadas a 0V y -80V (9.5 y 27.9 mpy, respectivamente) fueron menores que la del acero sin recubrir (33.1 mpy), mostrando el efecto protector de la capa de AlN depositada.

• Autores: Yate, Luis; Aperador Chaparro, William Arnulfo; Caicedo, Julio Cesar; Zambrano, Gustavo; Espinoza Beltrán, F. J; Muñoz Saldaña, Juan
• Tipo de recurso: Article of investigation
• Fecha de publicación: 2009
• Institución: Escuela Colombiana de Ingeniería Julio Garavito
• Repositorio: Repositorio Institucional ECI
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.escuelaing.edu.co:001/2354
• Acceso en línea: https://repositorio.escuelaing.edu.co/handle/001/2354
• Palabra clave: Electroquímica; Espectroscopía por rayos-X; Magnetrones; Electrochemistry; X-ray spectroscopy; Magnetrons; Nitruro de aluminio; Magnetrón sputtering; Propiedades electroquímicas; Aluminum nitride; Magnetron sputtering; Electrochemical properties
• Rights: closedAccess
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