Montaje y calibración de un reactor HFCVD (Hot Filament Chemical Vapor Deposition) para deposición de Nitruros de Niobio

Ingeniero Químico

Autores:
Araújo Cordero, Ana María
Tipo de recurso:
Trabajo de grado de pregrado
Fecha de publicación:
2009
Institución:
Universidad de los Andes
Repositorio:
Séneca: repositorio Uniandes
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repositorio.uniandes.edu.co:1992/25236
Acceso en línea:
http://hdl.handle.net/1992/25236
Palabra clave:
Películas delgadas - Investigaciones
Química de superficies - Investigaciones
Tecnología del vacío - Investigaciones
Ingeniería
Rights
openAccess
License
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