Montaje y calibración de un reactor HFCVD (Hot Filament Chemical Vapor Deposition) para deposición de Nitruros de Niobio

Ingeniero Químico

• Autores: Araújo Cordero, Ana María
• Tipo de recurso: Trabajo de grado de pregrado
• Fecha de publicación: 2009
• Institución: Universidad de los Andes
• Repositorio: Séneca: repositorio Uniandes
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.uniandes.edu.co:1992/25236
• Acceso en línea: http://hdl.handle.net/1992/25236
• Palabra clave: Películas delgadas - Investigaciones; Química de superficies - Investigaciones; Tecnología del vacío - Investigaciones; Ingeniería
• Rights: openAccess
• License: http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/