(2014). Deposición de óxido de titanio para la formación de películas por medio de HFCVD y electrodeposición.
Chicago Style (17th ed.) CitationDeposición De óxido De Titanio Para La Formación De Películas Por Medio De HFCVD Y Electrodeposición. 2014.
MLA (8th ed.) CitationDeposición De óxido De Titanio Para La Formación De Películas Por Medio De HFCVD Y Electrodeposición. 2014.
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