Crecimiento y caracterización de películas delgadas de NbN (2023)
En este trabajo, se han producido películas delgadas de NbN y Nb utilizando la técnica de pulverización catódica reactiva con magnetrón RF, utilizando un blanco de Nb (99.99%) bajo diversas presiones parciales de N2 y a dos temperaturas diferentes, ambiente (22 °C) y 600 °C. Las películas resultantes fueron caracterizadas mediante microscopía electrónica de barrido, microscopía de fuerza atómica y medidas de resistividad en un rango de temperatura de 4 K a 300 K. Estas técnicas permitieron examinar la composición atómica, microestructura, morfología de la superficie y propiedades eléctricas de las películas depositadas.