Estudio de propiedades eléctricas y ópticas de recubrimientos nano-estructuradas de bismuto y oxido de bismuto

El bismuto es un material semi metal que presenta características particulares, como son el hecho de la diferencia que puede haber entre las propiedades de la superficie y el volumen del material: las superficies son metales mejores que el volumen, debido a la existencia de estados electrónicos superficiales que se cruzan con el nivel de Fermi. Por otro lado, el óxido de bismuto ha sido investigado extensivamente debido a sus propiedades ópticas y eléctricas tales como, un gran gap de energía, índice de refracción, permitividad dieléctrica, así como una fotoconductividad y fotoluminiscencia notable. Es por esto, que el estudio de estos materiales a nivel nanométrico es de gran interés. En este trabajo se estudiaron la estructura, morfología, propiedades eléctricas y ópticas de películas nanoestructuradas de bismuto y óxido de bismuto depositadas por la técnica de “sputtering” con magnetrón desbalanceado y con un espesor de aproximadamente 200 nm. El análisis microestructural se hizo por medio de difracción de rayos X (XRD - X Ray Diffraction) y microscopía electrónica de barrido (SEM - Scanning Electron Microscopy). Las propiedades ópticas se evaluaron con el registro de su espectro de transmisión con la técnica de espectroscopía UV – Vis/NIR y para las propiedades eléctricas se utilizó un equipo de FPP (Four Point Probe) y PPMS (Physical Property Measurement System). Debido a la presencia de varios trabajos en los cuales se estudia el óxido de bismuto crecido por tratamiento térmico de películas delgadas de bismuto, se oxidaron térmicamente unas películas de bismuto y se estudiaron sus propiedades estructurales y ópticas. De los resultados se concluye que las películas depositadas por “sputtering” tanto de bismuto como de óxido de bismuto y las tratadas térmicamente son cristalinas. La fase del óxido de bismuto obtenido térmicamente difiere del depositado por “sputtering” reactivo. También se obtiene que bajo estas condiciones de deposición se mejoró la conductividad de las películas de bismuto comparadas con las obtenidas en trabajos previos. Sin embargo, su conductividad es un poco menor a la obtenida para el óxido depositadas por pulverización catódica; las películas tratadas térmicamente presentan un comportamiento aislante. Las energías del “band gap” y las energías de activación confirman este resultado. Finalmente, las películas presentaron una baja transmitancia y absorbancia lo que dificultó el cálculo del índice de refracción.

• Autores: Otálora Barrero, Diana Maria
• Fecha de publicación: 2014
• Institución: Universidad Nacional de Colombia
• Repositorio: Universidad Nacional de Colombia
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.unal.edu.co:unal/54401
• Acceso en línea: https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/54401; http://bdigital.unal.edu.co/49336/
• Palabra clave: 5 Ciencias naturales y matemáticas / Science; 53 Física / Physics; 62 Ingeniería y operaciones afines / Engineering; Bismuto; Oxido de bismuto; Sputtering; bismuth; Bismuth oxide
• Rights: openAccess
• License: Atribución-NoComercial 4.0 Internacional