Evaluating the corrosion resistance of ubm-deposited cr/crn multilayers

This work was aimed at evaluating the corrosion resistance of multilayer Cr/CrN coatings deposited by the unbalan-ced magnetron sputtering (UBM) technique. Coatings were produced at room temperature using 400 mA discharge current, 9 sccm argon flow and 3 sccm nitrogen flow. The total thickness of co...

Full description

Autores:
Chipatecua Godoy, Yuri Lizbeth
Marulanda Cardona, Diana Maritza
Olaya Flórez, Jhon Jairo
Tipo de recurso:
Article of journal
Fecha de publicación:
2011
Institución:
Universidad Nacional de Colombia
Repositorio:
Universidad Nacional de Colombia
Idioma:
spa
OAI Identifier:
oai:repositorio.unal.edu.co:unal/33467
Acceso en línea:
https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/33467
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Palabra clave:
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polarización potenciodinámica
películas delgadas
resistencia a la corrosión
Cr/CrN.
Unbalanced magnetron sputtering
potentiodynamic polarisation
thin film
corrosion resistance
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Rights
openAccess
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description This work was aimed at evaluating the corrosion resistance of multilayer Cr/CrN coatings deposited by the unbalan-ced magnetron sputtering (UBM) technique. Coatings were produced at room temperature using 400 mA discharge current, 9 sccm argon flow and 3 sccm nitrogen flow. The total thickness of coatings deposited on AISI 304 stainless steel and silicon (100) varied between 0.2 a 3 μm as bilayer period varied between 20 and 200 nm. Coating microstructure and chemical composition was stu-died through scanning electron microscopy (SEM) and tex-ture and crystalline phases were analysed by X-ray diffraction (XRD) before and after corrosion tests which were carried out by potentiodynamic polarisation using 0.5 M H2SO4 + 0.05M KSCN solution. Lower bilayer period coatings presented better corrosion resistance and their corrosion mechanism is discussed in this article.
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