Deposición de películas delgadas de Diamond-like Carbon (DLC) utilizando la técnica DC-pulsada PECVD (2017)
Resumen. En este trabajo se realizó la deposición de películas delgadas de carbono amorfo hidrogenado usando la técnica DC-pulsada PECVD. Las películas fueron depositadas utilizando plasma de metano y variando la tensión de autopolarización aplicada al cátodo durante el crecimiento de las películas. El sustrato que se utilizó para depositar las películas fue silicio. Las películas fueron caracterizadas teniendo en cuenta las principales propiedades microestructurales y mecánicas. Los estudios llevados a cabo permitieron obtener los parámetros óptimos para la deposición de las películas de carbono amorfo hidrogenado empleando este sistema de deposición.