Diseño y fabricación de un prototipo del sistema óptico de un equipo de litografía (2013)
Se diseñó e implementó un sistema óptico para la producción de patrones de intensidad de alta resolución (450 nm), el cual puede ser utilizado para el posterior desarrollo de un equipo de litografía óptica sin máscara (LOSM), adecuado para la generación de elementos ópticos difractivos1. En el equipo desarrollado, la generación de la imagen a registrar no se hizo reemplazando la fotomáscara normalmente utilizada en los equipos de microlitografía con un modulador espacial de amplitud, sino que se realizó empleando técnicas difractivas. Esto permitió que el modulador espacial de luz utilizado en esta tarea, fuera además empleado para compensar las aberraciones del sistema óptico, simplificando las tareas de diseño, permitiendo el uso de óptica de catálogo, y facilitando la fabricación. A parte del diseño óptico del sistema, se propusieron una serie de modificaciones al algoritmo de Gerchberg-Saxton, que permiten encontrar la función de fase que se debe colocar en el modulador para el diseño propuesto. Estos algoritmos resuelven de manera novedosa las dificultades experimentales que se presentan al fabricar el equipo