Producción de películas de nitruro-titanio-aluminio-vanadio (TiAlV)N variando la temperatura del sustrato por la técnica PAPVD

Se depositaron películas de (TiAlV)N sobre sustratos de acero 304 y H13 por medio de la técnica PAPVD por arco pulsado, variando la temperatura del sustrato en un rango desde temperatura ambiente hasta 300°C. Los recubrimientos fueron analizados por medio de las técnicas de espectroscopía de Fotoelectrones de Rayos X (XPS) para observar su composición química, Difracción de Rayos X (XRD) para analizar la estructura cristalina, parámetro de red, tamaño de cristalito, microstress y coeficiente de textura cristalográfica, Microscopía Electrónica de Barrido (SEM) para determinar su morfología, espectroscopia de Energía Dispersiva (EDS) para observar su composición química elemental con respecto a la influencia del cambio de la temperatura del sustrato en sus propiedades; además, se utilizo la Teoría de Densidad Funcional (DFT), para observar la distribución de cargas, los orbitales moleculares, la densidad de estados electrónicos, el potencial electrostático producido y calcular algunas magnitudes físicas con respecto a la variación de elementos sustituyentes en la celda unitaria (Texto tomado de la fuente)

• Autores: González Carmona, Juan Manuel
• Fecha de publicación: 2007
• Institución: Universidad Nacional de Colombia
• Repositorio: Universidad Nacional de Colombia
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.unal.edu.co:unal/7212
• Acceso en línea: https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/7212; http://bdigital.unal.edu.co/3545/
• Palabra clave: 53 Física / Physics; 62 Ingeniería y operaciones afines / Engineering; Técnica PAPVD, películas de (TiAlV)N, Nitruros, Titanio, Aluminio, Vanadio, Acero, descargas Glow, descargas por arco, Películas delgadas, Revestimientos protectores pulsado
• Rights: openAccess
• License: Atribución-NoComercial 4.0 Internacional