Propiedades ópticas de silicio policristalino depositado a diferentes frecuencias

El presente trabajo recoge el estudio de propiedades las ópticas de películas delgadas de silicio policristalino, con el propósito de ser usadas como capa absorbente en celdas solares, este material ha generado gran interés en el desarrollo de nuevos dispositivos opto-electrónicos, en donde una de las mayores ventajas sobre el silicio amorfo es su estabilidad frente a la exposición a la luz y su baja temperatura de deposición. Para tal propósito se midieran películas delgadas de silicio policristalino, depositadas por la técnica PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) las constantes ópticas: el gap (Eg), índice de refracción (n), coeficiente de absorción (a) y el espesor (d) de las muestras. Estos constantes se obtendrán a partir de mediciones de transmitancia en función de la longitud de onda, utilizando el método de Swanepoel.

• Autores: Garzón, Angel Dario
• Tipo de recurso: Trabajo de grado de pregrado
• Fecha de publicación: 2009
• Institución: Universidad Nacional de Colombia
• Repositorio: Universidad Nacional de Colombia
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.unal.edu.co:unal/53987
• Acceso en línea: https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/53987; http://bdigital.unal.edu.co/48750/
• Palabra clave: 51 Matemáticas / Mathematics; 53 Física / Physics; 62 Ingeniería y operaciones afines / Engineering; Silicio policristalino; Celdas solares; Propiedades foto luminiscentes; Constantes ópticas; Temperatura del sustrato; Polycrystalline silicon; Solar cells; Photoluminescent properties; Optical constants; Substrate Temperature
• Rights: openAccess
• License: Atribución-NoComercial 4.0 Internacional