Caracterización eléctrica de un sistema de deposición de películas delgadas por plasma (2001)
El desarrollo de este trabajo, consiste básicamente en la caracterización eléctrica de un sistema de deposición de películas delgadas por plasma; este sistema consta de una cámara cilíndrica en acero inoxidable la cual contiene en su interior dos electrodos (ánodo-cátodo). Al generar un arco pulsado entre ellos, se presenta un vigoroso vapor metálico utilizado para producir una capa muy delgada (recubrimiento) sobre un substrato. En este trabajo se calcularon parámetros básicos como temperatura electrónica (Te), densidad electrónica (ne), potencial del plasma en la región interelectródica, utilizando la técnica de sonda eléctrica doble. Análisis de las muestras y del material catódico utilizando microscopía de fuerza atómica y un microscopio electrónico permitió determinar los tipos de spots , modos de transición del arco e identificar macropartículas que son emitidas en estado liquido por el material catódico y que generan variaciones en lo parámetros del plasma. (Texto tomado de la fuente)