Aplicaciones del silicio amorfo (a-si)

Los semiconductores no cristalinos han ganado gran importancia tecnológica en los últimos años, gracias a sus propiedades físicas específicas y a métodos de producción relativamente sencillos. Estos métodos basados en la tecnología conocida y aplicada en la preparación de películas delgadas han permitido la producción de dispositivos electrónicos de gran superficie, a precios moderados. Luego de que Spear y Lecomber (1972) encontraron que era posible dopar el Silicio amorfo hidrogenado (a-Si: H), se presentó en todo el mundo una intensa investigación básica de las propiedades físicas de estos materiales, motivada por las grandes posibilidades de aplicación. Inicialmente se tuvo como meta la fabricación de Celdas Solares económicas y de alta eficiencia, en contraposición a las muy buenas pero muy costosas de Silicio Cristalino (c-Si) y arsenuro de Galio (GaAs). Hoy en día sus aplicaciones van más allá, especial mente en lo que respecta a la fabricación de diversos componentes electrónicos: Transistores (FET), películas delgadas para copiadoras etc.

• Autores: Mariño, Álvaro
• Tipo de recurso: Article of journal
• Fecha de publicación: 1989
• Institución: Universidad Nacional de Colombia
• Repositorio: Universidad Nacional de Colombia
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.unal.edu.co:unal/44830
• Acceso en línea: https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/44830; http://bdigital.unal.edu.co/34929/
• Palabra clave: Silicio amorfo hidrogenado; semiconductores no cristalinos; dispositivos tecnológicos
• Rights: openAccess
• License: Atribución-NoComercial 4.0 Internacional