Recubrimientos de (ti,al)n sobre acero aisi 4140 por sputtering reactivo

Empleando la técnica de Pulverización catódica con radiofrecuencia y magnetrón (Magnetrón Sputtering RF), se prepararon películas de (Ti,Al)N sobre sustratos de acero AISI 4140. Se utilizo un blanco formado con polvos metálicos de Ti y Al, con composición nominal 60% Ti y 40% Al (porcentaje en átomos) y una razón de presiones parciales de nitrógeno - argon, PN2/PAr de 0,1 aproximadamente; la temperatura del sustrato se vario entre 260 y 330 oC y el tiempo de deposición entre 2 y 4,5 horas para obtener películas con diferentes espesores. La composición química de las películas se determino mediante la técnica de energía dispersada de rayos X (EDX), y su topografía mediante microscopia de fuerza atómica (AFM). Igualmente se midió micro dureza, y se determino su comportamiento electroquímico mediante espectroscopia de impedancia electroquímica EIS y ensayos TAFEL. Las películas obtenidas presentaron granos globulares, uniformes y de

• Autores: García, Danna; Piratoba, Ulises; Marino, Álvaro
• Tipo de recurso: Article of journal
• Fecha de publicación: 2007
• Institución: Universidad Nacional de Colombia
• Repositorio: Universidad Nacional de Colombia
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:repositorio.unal.edu.co:unal/22390
• Acceso en línea: https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/22390; http://bdigital.unal.edu.co/13424/
• Rights: openAccess
• License: Atribución-NoComercial 4.0 Internacional