Estimación de la dosis y profundidad de iones implantados en la superficie del acero al carbono (2014)
La concentración por profundidad alcanzada por los iones de titanio (Ti) y titanio y nitrógeno (Ti+N) implantados superficialmente en sustratos de acero AISI SAE 1020 mediante descargas híbridas pulsadas de alto voltaje y arco eléctrico a bajas presiones, fue estudiada mediante simulaciones usando el paquete computacional SRIM-TRIM (Stopping and Ranges of Ions in Matter- TRansport of Ions in Matter), a partir de la dosis de implantación obtenida de los parámetros establecidos en el experimento. La investigación se centró en conocer el rango de profundidad alcanzado por los iones implantados al interior del sustrato. Las probetas modificadas superficialmente con iones de Ti y Ti+N fueron caracterizadas por medio de microscopia electrónica de barrido (MEB) y espectroscopia de energía dispersa (EED). Las simulaciones de las concentraciones por profundidad para las implantaciones correspondientes a cada tipo de ion, establecieron que la profundidad alcanzada por el ion de Ti implantado fue de ~300 Angstrom y de ~400 Angstrom para el ion de N. De las mediciones de MEB se encontró que en la implantación de Ti se produce microgrotas sobre la superficie del. Por su parte las mediciones de EED corroboraron la ocurrencia de la implantación iónica de especies metálicas y no metálicas en la superficie de los sustratos de acero AISI SAE 1020.