Evaluación de la etilendiamina y la etanolamina como materiales dopantes en la preparación de películas de n-tio2 para la oxidación fotoelectrocatalítica de fenol (2013)
Películas delgadas de N-TiO2 fueron preparadas a partir del método sol-gel y la técnica de recubrimiento dip-coating sobre acero inoxidable AISI 304 y calcinadas a 350o C. La etilendiamina y la etanolamina se emplearon como precursores de nitrógeno; las relaciones molares butóxido de titanio (IV): precursor de nitrógeno empleadas fueron 1:2, 1:3 y 1:4. La caracterización de las películas se realizó por microscopía electrónica de barrido (SEM), difracción de rayos X (XRD), espectroscopía de reflectancia difusa (DRS), voltamperometría de barrido lineal y medidas de potencial a circuito abierto. El efecto del precursor de nitrógeno sobre las películas de N-TiO2 fue probado durante la oxidación fotoelectrocatalítica de fenol. Las películas de N-TiO2 fueron usadas como fotoánodos y como cátodo una placa de acero inoxidable AISI 304. Los electrodos fueron conectados a una fuente de poder DC que operó a 1.2 V sobre un área de 2 cm2 . La radiación incidente fue suministrada por una lámpara de halogenuro metálico (Philips MHN-TD, 150W). La solución electrolítica contenía 50 ppm de fenol y 0.1 M con NaCl (electrolito soporte) a pH 11. La oxidación de fenol se evaluó en un recipiente con dos electrodos y la cantidad de fenol degradado fue determinado por espectrofotometría UV-Vis durante 2.5 horas de reacción. La película de N-TiO2 etanolamina (1:2) evidenció mejor actividad durante la oxidación fotoelectrocatalítica de fenol.