Estudio de espesor para resinas AZ-1518 y AZ-nLOF2035 a partir de medidas ópticas multi-interfaz mediante elipsometría espectral (2024)
El proceso microlitográfico de circuitos con resinas fotosensibles requiere entender su comportamiento en condiciones de laboratorio, ya que el espesor de la capa depende de la viscosidad, densidad del líquido y velocidad de rotación. Este estudio se centra en las resinas AZ-1518 y AZ-nLOF2035, utilizando el método de spin-coating, que garantiza una deposición uniforme sin fuerzas tangenciales. Es fundamental establecer una curva de calibración específica para las condiciones del laboratorio, dado que las curvas proporcionadas por los fabricantes pueden no ajustarse a estas condiciones. La elipsometría espectral es la técnica experimental utilizada para caracterizar las muestras, permitiendo medir las constantes ópticas y determinar el espesor de las capas. Mediante el modelo de Nuevo Amorfo, se logra un ajuste con una bondad estadística resaltable, adaptándose a diversas condiciones ambientales. La investigación busca relacionar el grosor de las capas con las revoluciones del centrifugado para optimizar el proceso litográfico.