Estudio de la estructura de recubrimientos de silicio depositados mediante proyección térmica por llama oxiacetilénica

RESUMEN: Se estudió el efecto del tipo de llama, del tipo de sustrato y de la distancia de proyección sobre la porosidad y el espesor de recubrimientos de silicio depositados por medio de proyección térmica por llama oxiacetilénica. Para la elaboración de los recubrimientos se utilizó una llama reductora, una neutra y una oxidante, con el objetivo de calentar y posteriormente proyectar las partículas de silicio sobre sustratos de aluminio y de Ti6Al4V, a una distancia de proyección de 15 cm y 8.5 cm. Los resultados indican que los recubrimientos depositados a 8.5 cm son más compactos y que la utilización de una llama neutra reduce ligeramente la porosidad y permite tener capas más gruesas. Así mismo, los recubrimientos depositados sobre sustratos de Ti6Al4V presentaron menor porosidad y menos fallas estructurales que los depositados sobre aluminio.

• Autores: Gómez García, Isabel Cristina; Zuluaga Castrillón, Daniel; Hernández Ruiz, Juan Fernando; Vargas Galvis, Fabio; López Gómez, María Esperanza
• Tipo de recurso: Article of investigation
• Fecha de publicación: 2014
• Institución: Universidad de Antioquia
• Repositorio: Repositorio UdeA
• Idioma: spa
• OAI Identifier: oai:bibliotecadigital.udea.edu.co:10495/5776
• Acceso en línea: http://hdl.handle.net/10495/5776
• Palabra clave: Proyección térmica por llama oxiacetilénica; Recubrimientos de silicio; Espesor; Porosidad; Estructura; Aluminio; Silicio
• Rights: openAccess
• License: Atribución-NoComercial-CompartirIgual 2.5 Colombia (CC BY-NC-SA 2.5 CO)