Simulación de un plasma de hidrógeno en un reactor de microondas TM112 para la deposición de diamante
- Autores:
-
Martinez, Alejandro|Tsygankov, Petr
Barragan, Yerson
Parada, Fredy
Paez, Carlos
Orozco, Eduardo
- Tipo de recurso:
- Article of journal
- Fecha de publicación:
- 2025
- Institución:
- Universidad Pedagógica y Tecnológica de Colombia
- Repositorio:
- RiUPTC: Repositorio Institucional UPTC
- Idioma:
- spa
- OAI Identifier:
- oai:repositorio.uptc.edu.co:001/18803
- Acceso en línea:
- https://doi.org/10.19053/uptc.01217488.v16.n2.2025.18688
- Palabra clave:
- reactor de plasma
microondas
simulación computacional
películas delgadas
deposición química de vapor.
plasma reactor
microwave,
simulation,
thin films
chemical vapor deposition.
- Rights
- openAccess
- License
- https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/deed.es